[發明專利]一種水基硅片清洗劑及其制備方法

無效

• 申請號: 201310528004.2
• 申請日: 2013-10-31
• 公開（公告）號: CN103571644A
• 公開（公告）日: 2014-02-12
• 發明（設計）人: 郭萬東;孟祥法;董培才
• 申請（專利權）人: 合肥中南光電有限公司
• 主分類號: C11D1/83
• 分類號: C11D1/83;C11D3/60;C11D3/36
• 代理公司: 安徽合肥華信知識產權代理有限公司 34112
• 代理人: 余成俊

1.一種水基硅片清洗劑，其特征在于由下列重量份的原料制成：硼酸鈉2-3、焦磷酸鉀1-2、椰子油烷基醇酰胺磷酸酯3-4、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉4-5、檸檬酸2-3、乙醇30-40、助劑4-5、去離子水100-120；

所述助劑由下列重量份的原料制成：硅烷偶聯劑KH-570?2-3、抗氧劑1035?1-2、植酸1-2、嗎啉3-4、甲基丙烯酸-2-?羥基乙酯3-4、乙醇12-15；制備方法是將硅烷偶聯劑KH-570?、植酸、乙醇混合，加熱至60-70℃，攪拌20-30分鐘后，再加入其它剩余成分，升溫至80-85℃，攪拌30-40分鐘，即得。

2.根據權利要求1所述水基硅片清洗劑的制備方法，其特征在于包括以下步驟：將去離子水、硼酸鈉、焦磷酸鉀、椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉、檸檬酸、乙醇混合，在1000-1200轉/分攪拌下，以6-8℃/分的速率加熱到60-70℃，加入其他剩余成分，繼續攪拌15-20分鐘，即得。