[發(fā)明專利]一種太陽能級(jí)硅片水基清洗劑及其制備方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310527799.5
• 申請(qǐng)日: 2013-10-31
• 公開（公告）號(hào): CN103571647A
• 公開（公告）日: 2014-02-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 郭萬東;孟祥法;董培才
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 合肥中南光電有限公司
• 主分類號(hào): C11D1/86
• 分類號(hào): C11D1/86;C11D3/60;C11D3/20;C11D3/28
• 代理公司: 安徽合肥華信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 34112
• 代理人: 余成俊

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及清洗劑領(lǐng)域，尤其涉及一種太陽能級(jí)硅片水基清洗劑及其制備方法。

背景技術(shù)

硅片清洗劑廣泛應(yīng)用于光伏，電子等行業(yè)硅片清洗；由于硅片在運(yùn)輸過程中會(huì)有所污染，表面潔凈度不是很高，對(duì)即將進(jìn)行的腐蝕與刻蝕產(chǎn)生很大的影響，所以首先要對(duì)硅片表面進(jìn)行一系列的清洗操作。清洗的一般思路首先是去除表面的有機(jī)沾污，然后溶解氧化膜，因?yàn)檠趸瘜邮恰罢次巯葸M(jìn)”，會(huì)引起外延缺陷；再去除顆粒、金屬等，同時(shí)使硅片的表面鈍化。

目前多數(shù)硅片清洗劑采用RAC清洗中的一號(hào)液和三號(hào)液，但是一號(hào)液顯堿性，可能會(huì)造成硅表面粗糙，要嚴(yán)格控制溫度、濃度和時(shí)間；三號(hào)液顯酸性，有強(qiáng)腐蝕性，對(duì)人體健康也不利，生產(chǎn)成本高，有刺激性氣味，污染環(huán)境，因此需要進(jìn)一步改進(jìn)配方，以達(dá)到清潔徹底、無污染、腐蝕小、對(duì)人體健康、電路安全、降低成本的目的。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種太陽能級(jí)硅片水基清洗劑及其制備方法，該清洗劑具有清潔徹底、清潔速度快、操作簡(jiǎn)便的優(yōu)點(diǎn)。

本發(fā)明的技術(shù)方案如下：

一種太陽能級(jí)硅片水基清洗劑，其特征在于由下列重量份的原料制成：十二烷基苯磺酸鈉2-3、四甲基氫氧化銨3-4、椰油酰單乙醇胺5-6、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉1-2、檸檬酸2-3、乙醇30-40、助劑4-5、去離子水100-120；

所述助劑由下列重量份的原料制成：硅烷偶聯(lián)劑KH-570?2-3、抗氧劑1035?1-2、植酸1-2、嗎啉3-4、甲基丙烯酸-2-?羥基乙酯3-4、乙醇12-15；制備方法是將硅烷偶聯(lián)劑KH-570?、植酸、乙醇混合，加熱至60-70℃，攪拌20-30分鐘后，再加入其它剩余成分，升溫至80-85℃，攪拌30-40分鐘，即得。

所述太陽能級(jí)硅片水基清洗劑的制備方法，其特征在于包括以下步驟：將去離子水、十二烷基苯磺酸鈉、四甲基氫氧化銨、椰油酰單乙醇胺、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉、檸檬酸、乙醇混合，在1000-1200轉(zhuǎn)/分?jǐn)嚢柘拢?-8℃/分的速率加熱到60-70℃，加入其他剩余成分，繼續(xù)攪拌15-20分鐘，即得。

本發(fā)明的有益效果

本發(fā)明清洗劑對(duì)金屬離子、有機(jī)物、固體顆粒都能快速清除,無需復(fù)雜的制備工藝?,大大地提高了生產(chǎn)的效率；清洗劑安全環(huán)保,與傳統(tǒng)硅片清洗劑相比,常溫使用,清洗效率高,對(duì)硅片無過腐蝕,并且成本有所下降。本發(fā)明的助劑能夠在電路板表面形成保護(hù)膜，隔絕空氣，防止大氣中水及其他分子腐蝕電路板，抗氧化，方便下一步制作工藝進(jìn)行。

具體實(shí)施方式

一種太陽能級(jí)硅片水基清洗劑，由下列重量份（公斤）的原料制成：十二烷基苯磺酸鈉2.5、四甲基氫氧化銨3.6、椰油酰單乙醇胺5.6、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉1.5、檸檬酸2.5、乙醇35、助劑4.5、去離子水110；

所述助劑由下列重量份（公斤）的原料制成：硅烷偶聯(lián)劑KH-570?2.5、抗氧劑1035?1.5、植酸1.5、嗎啉3.5、甲基丙烯酸-2-?羥基乙酯3.5、乙醇14；制備方法是將硅烷偶聯(lián)劑KH-570、植酸、乙醇混合，加熱至65℃，攪拌25分鐘后，再加入其它剩余成分，升溫至84℃，攪拌34分鐘，即得。

所述太陽能級(jí)硅片水基清洗劑的制備方法，包括以下步驟：將去離子水、十二烷基苯磺酸鈉、四甲基氫氧化銨、椰油酰單乙醇胺、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉、檸檬酸、乙醇混合，在1100轉(zhuǎn)/分?jǐn)嚢柘拢?℃/分的速率加熱到65℃，加入其他剩余成分，繼續(xù)攪拌17分鐘，即得。

該太陽能級(jí)硅片水基清洗劑用于清洗太陽能硅片，洗凈率為99.4%，對(duì)洗凈硅片表面不會(huì)殘留不溶物，不產(chǎn)生新污染，不影響產(chǎn)品的質(zhì)量，洗凈后的硅片表面干凈，色澤一致，無花斑。