[發(fā)明專利]一種去除硅片表面污斑的水基清洗劑及其制備方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310527754.8
• 申請日: 2013-10-31
• 公開（公告）號: CN103589521A
• 公開（公告）日: 2014-02-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 郭萬東;孟祥法;董培才
• 申請（專利權(quán)）人: 合肥中南光電有限公司
• 主分類號: C11D1/37
• 分類號: C11D1/37;C11D3/60;C11D3/39;C11D3/20;C11D3/34;C11D3/36;C11D3/28
• 代理公司: 安徽合肥華信知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 34112
• 代理人: 余成俊

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及清洗劑領(lǐng)域，尤其涉及一種去除硅片表面污斑的水基清洗劑及其制備方法。

背景技術(shù)

硅片清洗劑廣泛應(yīng)用于光伏，電子等行業(yè)硅片清洗；由于硅片在運(yùn)輸過程中會有所污染，表面潔凈度不是很高，對即將進(jìn)行的腐蝕與刻蝕產(chǎn)生很大的影響，所以首先要對硅片表面進(jìn)行一系列的清洗操作。清洗的一般思路首先是去除表面的有機(jī)沾污，然后溶解氧化膜，因為氧化層是“沾污陷進(jìn)”，會引起外延缺陷；再去除顆粒、金屬等，同時使硅片的表面鈍化。

目前多數(shù)硅片清洗劑采用RAC清洗中的一號液和三號液，但是一號液顯堿性，可能會造成硅表面粗糙，要嚴(yán)格控制溫度、濃度和時間；三號液顯酸性，有強(qiáng)腐蝕性，對人體健康也不利，生產(chǎn)成本高，有刺激性氣味，污染環(huán)境，因此需要進(jìn)一步改進(jìn)配方，以達(dá)到清潔徹底、無污染、腐蝕小、對人體健康、電路安全、降低成本的目的。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種去除硅片表面污斑的水基清洗劑及其制備方法，該清洗劑具有清潔徹底、清潔速度快、快速去除污斑的優(yōu)點(diǎn)。

本發(fā)明的技術(shù)方案如下：

一種去除硅片表面污斑的水基清洗劑，其特征在于由下列重量份的原料制成：辛基苯烷基聚氧乙烯磷酸酯3-4、十二烷基硫基乙酸鈉2-3、檸檬酸鈉3-4、過硼酸鈉1-2、乙醇30-40、助劑4-5、去離子水100-120；

所述助劑由下列重量份的原料制成：硅烷偶聯(lián)劑KH-570?2-3、抗氧劑1035?1-2、植酸1-2、嗎啉3-4、甲基丙烯酸-2-?羥基乙酯3-4、乙醇12-15；制備方法是將硅烷偶聯(lián)劑KH-570?、植酸、乙醇混合，加熱至60-70℃，攪拌20-30分鐘后，再加入其它剩余成分，升溫至80-85℃，攪拌30-40分鐘，即得。

所述去除硅片表面污斑的水基清洗劑的制備方法，其特征在于包括以下步驟：將去離子水、辛基苯烷基聚氧乙烯磷酸酯、十二烷基硫基乙酸鈉、檸檬酸鈉、乙醇混合，在1000-1200轉(zhuǎn)/分?jǐn)嚢柘拢?-8℃/分的速率加熱到60-70℃，再降溫到25℃以下，加入其他剩余成分，繼續(xù)攪拌15-20分鐘，即得。

本發(fā)明的有益效果

本發(fā)明的清洗劑對金屬離子、脂類、無機(jī)物顆粒等均有優(yōu)異的清洗效果；而且通過使用過硼酸鈉，對電路板表面污斑的清洗效果好，同時還具有防止電路板表面形成污斑的功效，操作方便。本發(fā)明的助劑能夠在電路板表面形成保護(hù)膜，隔絕空氣，防止大氣中水及其他分子腐蝕電路板，抗氧化，方便下一步制作工藝進(jìn)行。

具體實(shí)施方式

一種去除硅片表面污斑的水基清洗劑，由下列重量份（公斤）的原料制成：辛基苯烷基聚氧乙烯磷酸酯3.6、十二烷基硫基乙酸鈉2.5、檸檬酸鈉3.5、過硼酸鈉1.5、乙醇35、助劑4.5、去離子水110；

所述助劑由下列重量份（公斤）的原料制成：硅烷偶聯(lián)劑KH-570?2.5、抗氧劑1035?1.5、植酸1.5、嗎啉3.5、甲基丙烯酸-2-?羥基乙酯3.5、乙醇14；制備方法是將硅烷偶聯(lián)劑KH-570、植酸、乙醇混合，加熱至65℃，攪拌25分鐘后，再加入其它剩余成分，升溫至84℃，攪拌34分鐘，即得。

所述去除硅片表面污斑的水基清洗劑的制備方法，包括以下步驟：將去離子水、辛基苯烷基聚氧乙烯磷酸酯、十二烷基硫基乙酸鈉、檸檬酸鈉、乙醇混合，在1100轉(zhuǎn)/分?jǐn)嚢柘拢?℃/分的速率加熱到65℃，再降溫到22℃，加入其他剩余成分，繼續(xù)攪拌18分鐘，即得。

該去除硅片表面污斑的水基清洗劑用于清洗硅片，洗凈率為99.4%，對洗凈硅片表面不會殘留不溶物，不產(chǎn)生新污染，不影響產(chǎn)品的質(zhì)量，洗凈后的硅片表面干凈，色澤一致，無花斑。