[發(fā)明專利]顯示裝置以及電子設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310526469.4 | 申請(qǐng)日: | 2013-10-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103794511B | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-08-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 肥塚純一;島行德;保坂泰靖;岡崎健一;松尾拓哉;森重恭;神崎庸輔;松木園廣志 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社半導(dǎo)體能源研究所;夏普株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01L21/336 | 分類號(hào): | H01L21/336;H01L29/786;H01L21/28;G02F1/1368 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 張金金;湯春龍 |
| 地址: | 日本神奈*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示裝置 以及 電子設(shè)備 | ||
本公開(kāi)涉及顯示裝置以及電子設(shè)備,本發(fā)明的目的之一是抑制晶體管的電特性的變動(dòng)并提高可靠性。本發(fā)明的一個(gè)方式的顯示裝置包括:像素部104;以及設(shè)置在所述像素部的外側(cè)的驅(qū)動(dòng)電路部106,其中所述像素部包括:像素晶體管252;覆蓋所述像素晶體管的包括無(wú)機(jī)材料的第一絕緣膜124;設(shè)置在所述第一絕緣膜上且包括有機(jī)材料的第二絕緣膜126;以及設(shè)置在所述第二絕緣膜上且包括無(wú)機(jī)材料的第三絕緣膜130,所述驅(qū)動(dòng)電路部包括:對(duì)所述像素晶體管供應(yīng)信號(hào)的驅(qū)動(dòng)晶體管250;覆蓋所述驅(qū)動(dòng)晶體管的所述第一絕緣膜;以及形成在所述第一絕緣膜上的所述第二絕緣膜,并且,所述驅(qū)動(dòng)電路部包括在所述第二絕緣膜上沒(méi)有形成所述第三絕緣膜的區(qū)域或所述第二絕緣膜不被所述第三絕緣膜覆蓋的區(qū)域。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種顯示裝置以及一種電子設(shè)備。
背景技術(shù)
近年來(lái),對(duì)使用液晶面板的顯示裝置或使用有機(jī)EL面板的顯示裝置的研究開(kāi)發(fā)日益火熱。這種顯示裝置被粗分為如下兩種:一是,只將像素控制用晶體管(像素晶體管)形成在襯底上,而掃描電路(驅(qū)動(dòng)電路)被包括在外圍IC中的顯示裝置;二是,將像素晶體管和掃描電路都形成在同一襯底上的顯示裝置。
為了實(shí)現(xiàn)顯示裝置的窄邊框化或外圍IC的成本降低,使用驅(qū)動(dòng)電路整合型顯示裝置是較有效的。但是,用于驅(qū)動(dòng)電路的晶體管的電特性需要高于用于像素晶體管的晶體管的電特性(例如,場(chǎng)效應(yīng)遷移率(μFE)或閾值電壓等)。
作為能夠應(yīng)用于晶體管的半導(dǎo)體薄膜,硅類半導(dǎo)體材料被廣泛地周知。此外,作為其他材料,氧化物半導(dǎo)體引人注目(例如,專利文獻(xiàn)1、2)。例如,作為用于晶體管的半導(dǎo)體薄膜,使用其電子載流子濃度低于1018/cm3且包含銦(In)、鎵(Ga)及鋅(Zn)的非晶氧化物的晶體管引人注目。
因?yàn)閷⒀趸锇雽?dǎo)體用于半導(dǎo)體層的晶體管的場(chǎng)效應(yīng)遷移率高于將作為硅類半導(dǎo)體材料的非晶硅用于半導(dǎo)體層的晶體管,所以其工作速度快,適合用于驅(qū)動(dòng)電路整合型顯示裝置,并且其制造工序比將多晶硅用于半導(dǎo)體層的晶體管更容易。
但是,將氧化物半導(dǎo)體用于半導(dǎo)體層的晶體管有如下問(wèn)題:氫、水分等雜質(zhì)侵入氧化物半導(dǎo)體而導(dǎo)致載流子的產(chǎn)生,使得該晶體管的電特性中之一的閾值電壓變動(dòng)。
[專利文獻(xiàn)1]日本專利申請(qǐng)公開(kāi)2007-123861號(hào)公報(bào)
[專利文獻(xiàn)2]日本專利申請(qǐng)公開(kāi)2007-096055號(hào)公報(bào)
為了充分地保持在氧化物半導(dǎo)體層形成溝道的晶體管的電特性,重要的是:從該氧化物半導(dǎo)體層盡量去除氫、水分等。
特別是,當(dāng)將在氧化物半導(dǎo)體層形成溝道的晶體管用于顯示裝置的像素部和設(shè)置在該像素部的外側(cè)的驅(qū)動(dòng)電路部的雙方時(shí),雖然根據(jù)驅(qū)動(dòng)方法而不同,但是因?yàn)橛糜隍?qū)動(dòng)電路部的晶體管的電負(fù)荷大于用于像素部的晶體管,所以用于驅(qū)動(dòng)電路部的晶體管的電特性很重要。
此外,在將在氧化物半導(dǎo)體層形成溝道的晶體管用于像素部及驅(qū)動(dòng)電路部的顯示裝置中,當(dāng)進(jìn)行高溫高濕環(huán)境下的可靠性測(cè)試時(shí)產(chǎn)生的用于驅(qū)動(dòng)電路部的晶體管(也稱為驅(qū)動(dòng)晶體管)的劣化成為問(wèn)題。該驅(qū)動(dòng)晶體管劣化的原因是:可能從為了減少晶體管的凹凸設(shè)置的有機(jī)材料釋放出的水分等不能釋放到外部而進(jìn)入氧化物半導(dǎo)體層,使得該氧化物半導(dǎo)體層的載流子密度增高。
此外,上述驅(qū)動(dòng)晶體管劣化的其他原因之一是因?yàn)閺娘@示裝置外部侵入的水分進(jìn)入驅(qū)動(dòng)晶體管的氧化物半導(dǎo)體層。
發(fā)明內(nèi)容
于是,本發(fā)明的一個(gè)方式的課題之一是:在將在氧化物半導(dǎo)體層形成溝道的晶體管用于像素部及驅(qū)動(dòng)電路部的顯示裝置中,抑制該晶體管的電特性的變動(dòng)并提高可靠性。特別是,本發(fā)明的一個(gè)方式的課題之一是:防止氫、水分進(jìn)入用于驅(qū)動(dòng)電路部的晶體管的氧化物半導(dǎo)體層來(lái)抑制電特性的變動(dòng)并提高可靠性。
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- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
- 接收裝置以及接收方法、以及程序
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- X射線探測(cè)方法以及裝置以及系統(tǒng)
- 圖書(shū)信息錄入方法以及系統(tǒng)以及書(shū)架
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