[發明專利]用于處理含氮硫氧雜環化合物廢水的二維電極反應器

無效

• 申請號: 201310525843.9
• 申請日: 2013-10-30
• 公開（公告）號: CN103539231A
• 公開（公告）日: 2014-01-29
• 發明（設計）人: 豆俊峰;王鴻婷;丁愛中;許新宜
• 申請（專利權）人: 北京師范大學
• 主分類號: C02F1/461
• 分類號: C02F1/461;C02F101/38
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于處理含氮硫氧雜環化合物廢水的二維電極反應器，其特征在于，該反應器由電解槽、極板卡槽、格柵支架、透水格柵、磁珠、出水口、不銹鋼陰極板、負載Pt摻雜CoO-SnO鍍SrO膜鈦基陽極板、電線和穩壓穩流電源組成；在電解槽的底部放置磁珠，中下部設有出水口；格柵支架分布在電解槽的四角，透水格柵和極板卡槽均為活動式；在電解槽中共放置4個極板卡槽，每個極板卡槽上均勻設置5個卡位；其中，負載Pt摻雜CoO-SnO鍍SrO膜鈦基陽極板由如下方法制備：

(1)將鈦片放置在40kHz超聲波清洗儀中用洗滌劑溶液清洗30min，然后取出用去離子水沖洗，再放置在40kHz超聲波清洗儀中用去離子水清洗15min；

(2)將步驟(1)得到的鈦片放置在10％的草酸溶液中刻蝕2h，然后取出用去離子水沖洗，再放置在40kHz超聲波儀器中用去離子水清洗15min，晾干后保存在無水乙醇中備用；

(3)利用輝光放電對步驟(2)得到的鈦片表面進行預處理10min，然后在MS56A型高真空多靶磁控濺射機上完成磁控濺射鍍鉑得到物質A，其中陰極靶材為鉑片，鈦片作為陽極基片，操作模式為射頻濺射，真空度為8.0×10^-2Pa，功率為100W，氬氣壓力為1pa；

(4)將正丁醇、異丙醇、異丁醇、無水乙醇按等體積比例混合，得到溶液A；將Co(NO₃)₂.6H₂O溶于水中制成濃度為0.5mol/L的溶液，加入5滴硝酸以防水解，得到溶液B；將SnCl₂.H₂O溶于無水乙醇制成濃度為0.5mol/L的溶液C；將Sr(NO₃)₂溶于水中制成濃度為0.5mol/L的溶液D；

(5)向溶液B中加入等體積的溶液A搖勻后分成等量4份，得到溶液B1、B2、B3、B4；

(6)向溶液C中加入等體積的溶液A搖勻后分成等量4份，得到溶液C1、C2、C3、C4；

(7)向溶液D中加入等體積的溶液A搖勻后分成等量2份，得到溶液D1、D2；

(8)將步驟(3)得到的物質A浸入步驟(5)得到的溶液B1中，并在磁力攪拌器作用下均勻浸漬，3h后取出晾干，然后在100℃條件下干燥10h，得到物質B1；

(9)將物質B1浸入步驟(5)得到的溶液B2中，并在磁力攪拌器作用下均勻浸漬，3h后取出晾干，然后在100℃條件下干燥10h，將干燥后的物質置于馬弗爐中在960℃條件下焙燒4h，得到物質B2；

(10)將物質B2浸入步驟(6)得到的溶液C1中，并在磁力攪拌器作用下均勻浸漬，3h后取出晾干，然后在100℃條件下干燥10h，得到物質C1；

(11)將物質C1浸入步驟(6)得到的溶液C2中，并在磁力攪拌器作用下均勻浸漬，3h后取出晾干，然后在100℃條件下干燥10h，將干燥后的物質置于馬弗爐中在500℃條件下焙燒4h，得到物質C2；

(12)將物質C2浸入步驟(5)得到的溶液B3中，并在磁力攪拌器作用下均勻浸漬，3h后取出晾干，然后在100℃條件下干燥10h，得到物質B3；

(13)將物質B3浸入步驟(5)得到的溶液B4中，并在磁力攪拌器作用下均勻浸漬，3h后取出晾干，然后在100℃條件下干燥10h，將干燥后的物質置于馬弗爐中在960℃條件下焙燒4h，得到物質B4；

(14)將物質B4浸入步驟(6)得到的溶液C3中，并在磁力攪拌器作用下均勻浸漬，3h后取出晾干，然后在100℃條件下干燥10h，得到物質C3；

(15)將物質C3浸入步驟(6)得到的溶液C4中，并在磁力攪拌器作用下均勻浸漬，3h后取出晾干，然后在100℃條件下干燥10h，將干燥后的物質置于馬弗爐中在500℃條件下焙燒4h，得到物質C4；

(16)將物質C4浸入步驟(7)得到的溶液D1中，并在磁力攪拌器作用下均勻浸漬，3h后取出晾干，然后在100℃條件下干燥10h，將干燥后的物質置于馬弗爐中在780℃條件下焙燒4h，得到物質D1；

(17)將物質D1浸入步驟(7)得到的溶液D2中，并在磁力攪拌器作用下均勻浸漬，3h后取出晾干，然后在100℃條件下干燥10h，將干燥后的物質置于馬弗爐中在780℃條件下焙燒4h，得到的物質即為負載Pt摻雜C_OO-SnO鍍SrO膜的鈦基陽極板。