[發明專利]一種顆粒表面處理設備

無效

• 申請號: 201310525838.8
• 申請日: 2013-10-21
• 公開（公告）號: CN103537234A
• 公開（公告）日: 2014-01-29
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 劉東升
• 主分類號: B01J8/24
• 分類號: B01J8/24
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明屬于化工醫藥領域，具體涉及一種顆粒表面處理設備。

背景技術

顆粒表面處理技術可采用氣流與液流方法。由于液流處理存在后期的分散、過濾與干燥，且工藝過程復雜，因此，顆粒表面處理逐漸多采用氣體處理，亦即：將顆粒懸浮于氣體中，并使得氣體與顆粒表面發生反應。流化床是氣體顆粒表面處理最常用的裝備，被廣泛應用，但是，一般流化床存在以下問題：其一，顆粒粒徑太小時，顆粒容易隨氣體逸出流化室，顆粒處理時間不易控制；其二，給料顆粒粒徑分布太寬，各種粒徑顆粒在流化室與氣體接觸時間不均勻，導致顆粒表面處理效果不佳；其三，流化床對顆粒性質要求苛刻，不同材料顆粒的流化性質對流化床要求不同，因此，不同材料顆粒在流化床的流化性能難以把握，由此，流化床設備的顆粒流化的普適性不高；其四，流化床對顆粒表面處理的工業化存在限制，工業化的物料顆粒的表面處理要求量大、實用，而一般工業化顆粒處理都涉及各種粒徑、各種材質顆粒，由以上分析可知，一般流化床許多地方需要改進。

為了克服以上存在的問題，本發明提出了一種顆粒表面處理設備，采用物料循環的氣力輸送系統與噴霧裝置作為顆粒流化與表面處理裝置，該設備可適用于各種顆粒粒徑大小、各種顆粒粒徑分布的物料表面處理過程，尤其適合超細顆粒及納米顆粒處理，且工業化、連續作業性能好。

發明內容

本發明的目的在于提出一種顆粒表面處理設備，采用該設備可以對各種不同粒徑的粗、細、超細等單一顆粒物料、粒徑分布寬的顆粒物料及不同性質顆粒物料實施表面處理，同時采用該方法可以實施連續的、工業化的作業。

為了實現本發明的目的，本發明所采用的技術方案為：一種顆粒表面處理設備，采用物料循環的壓送式氣力輸送系統作為顆粒流化裝置，采用該裝置對顆粒進行流化與表面處理：包括供氣裝置，供氣裝置的出口與一供料裝置相連，所述供料裝置并具有氣體第一入口與固體顆粒第二入口，供氣裝置氣體出口與供料裝置的氣體第一入口相連。所述供料裝置出口連接有一輸送管道，所述輸送管道為該流化與表面處理設備流化室，所述輸送管道設有噴霧裝置、霧化噴嘴，所述噴霧裝置與霧化噴嘴相連，如圖3所示，所述輸送管道下游連接有一排料裝置，所述排料裝置并具有氣體出口與固體顆粒出口。所述供氣裝置為設備提供顆粒流化用氣體，通過供料裝置可將氣體與固體顆粒輸送進入下游管道，顆粒、霧化成分與氣體充分混合流化，并完成表面處理。所述排料裝置固體顆粒出口與供料裝置固體顆粒第二入口通過卸料裝置形成通路，物料顆粒在循環回路管道內充分混合，并處于流化狀態。

其工作原理為：供氣裝置為系統提供氣體，該氣體通過供料裝置氣體第一入口進入供料裝置；物料由物料供應裝置(未標出)通過供料裝置固體顆粒第二入口進入供料裝置，在供料裝置里，氣體與物料顆粒充分混合后，在壓送力作用下氣體攜帶顆粒由供料裝置出口進入下游輸送管道，并完成流化。設置于輸送管道的噴霧裝置通過霧化噴嘴對管道內懸浮顆粒噴霧，霧珠沉積于顆粒表面，霧珠所包含成分也就沉積于表面，完成顆粒的表面處理。由于顆粒的處理需要一定時間，因此，隨后的顆粒可經由排料裝置固體顆粒出口通過卸料裝置、供料裝置固體顆粒第二入口重新進入輸送管道繼續循環，保持顆粒的持續流化狀態，顆粒持續流化時間根據不同物料性能設定。所述卸料裝置為設有擋板或切換閥的多叉口卸料裝置，該擋板或切換閥用于物料流的分流或分料，從而可控制調節物料流的流動輸出方向。

為以下敘述方便，對位于供料裝置與排料裝置之間的輸送管道在此進行說明，所述輸送管道由一段及一段以上管道連接而成，串聯起來的管道可分為三部分：分別為左邊主管道、中間輸送管道流化室、右邊主管道，如圖2所示。

本發明進一步改進為：本發明的一種顆粒表面處理設備，所述輸送管道設有用于懸浮顆粒分散的振動裝置及網格裝置，如圖7、圖8所示。

本發明進一步改進為：本發明的一種顆粒表面處理設備，所述輸送管道設有溫度控制裝置，如圖5所示。

本發明進一步改進為：本發明的一種顆粒表面處理設備，位于供料裝置出口與排料裝置之間的輸送管道為物料顆粒的流化空間，如前所述，該輸送管道劃分為三段：分別為左邊主管道、輸送管道流化室、右邊主管道。所述輸送管道流化室的管道設有至少兩個及以上的并列管道，并列管道的入口相互連通，并分別與左邊主管道相通，并列管道的出口相互連通，并分別與右邊主管道相通。