[發明專利]一種具有防光反饋作用的高功率半導體激光加工光源系統

有效

• 申請號: 201310524962.2
• 申請日: 2013-10-29
• 公開（公告）號: CN103532016A
• 公開（公告）日: 2014-01-22
• 發明（設計）人: 劉暉;王敏;宋濤;劉興勝
• 申請（專利權）人: 西安炬光科技有限公司
• 主分類號: H01S5/40
• 分類號: H01S5/40;H01S5/068;H01S5/06;G02B27/28;G02B7/182;B23K26/70
• 代理公司: 西安智邦專利商標代理有限公司 61211
• 代理人: 胡樂

1.一種具有防光反饋作用的高功率半導體激光加工光源系統，包括半導體激光器疊陣，其特征在于：所述半導體激光器疊陣的所有巴條偏振態一致，均發出o光；在半導體激光器疊陣出光方向設置有雙折射晶體，所述雙折射晶體對o光沿直線透射，對e光進行折射；在雙折射晶體后設置四分之一波片或者兩個八分之一波片，用以將光的偏振態旋轉45°；位于半導體激光器疊陣與雙折射晶體之間，在反方向經雙折射晶體折射形成的光路上設置有吸光板。

2.根據權利要求1所述的具有防光反饋作用的高功率半導體激光加工光源系統，其特征在于：在半導體激光器疊陣出光光路之外還設置有指示光源，所述指示光源發出的光肉眼可辨識且與半導體激光器疊陣發出的光相區別；對應于疊陣中部巴條的位置在半導體激光器疊陣的出光光路上成45度角背向設置一個反射鏡，指示光源發出的光垂直于半導體激光器疊陣出光光路，經反射鏡反射后與激光平行出射。

3.根據權利要求2所述的具有防光反饋作用的高功率半導體激光加工光源系統，其特征在于：所述指示光源為紅光光源或者綠光光源。

4.根據權利要求3所述的具有防光反饋作用的高功率半導體激光加工光源系統，其特征在于：所述反射鏡設置于半導體激光器疊陣與雙折射晶體之間。