[發明專利]吸附反轉裝置

在審

• 申請號: 201310522744.5
• 申請日: 2013-10-29
• 公開（公告）號: CN103910196A
• 公開（公告）日: 2014-07-09
• 發明（設計）人: 龜井慎太郎
• 申請（專利權）人: 三星鉆石工業股份有限公司
• 主分類號: B65G47/91
• 分類號: B65G47/91
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司 11019
• 代理人: 壽寧;張華輝

技術領域

本發明涉及一種在對由玻璃、硅、陶瓷、化合物半導體等的脆性材料所構成的基板進行加工分斷用的刻劃線、沿著該刻劃線進行分斷基板等的基板加工裝置等所使用的吸附反轉裝置。

背景技術

由現有習知，例如在專利文獻1等揭示有如下方法：對載置于平臺上的基板，使刀輪(又稱刻劃輪)在施加既定的刻劃壓的狀態下轉動、或利用由激光光束的照射產生的熱梯度等，形成相互正交的多條平行的刻劃線，之后，使基板表背面反轉，從與設有該刻劃線的面相反側的面以裂斷桿按壓而使基板撓曲借此分斷基板，取出單位制品。

此外，關于貼合有2片玻璃基板的基板的分斷方法，例如在專利文獻2(圖45等)，亦揭示有利用以下所示的步驟進行分斷的方法。亦即，對載置于刻劃裝置的平臺上的基板，借由使刀輪轉動，而在基板的一面即a面形成刻劃線。接著，在利用吸附反轉裝置吸附基板并使其反轉之后，載置于裂斷裝置的平臺上，對成為基板a面的背面的基板b面以裂斷桿等進行按壓而裂斷基板a面。接著，與上述同樣地，在基板b面形成刻劃線，使基板反轉后，對基板a面以裂斷桿等進行按壓而分斷基板b面。之后，將所分斷的基板從裂斷裝置卸除而移往下一步驟。

在如上述的基板的加工方法中，使用于使基板反轉的吸附反轉裝置，具備有用以吸附置于平臺等的載置臺上的基板并抬起的吸附板，而使利用吸附板吸附并抬起的基板進行反轉。作為使該吸附板相對于基板面上下升降的機構，例如從位于平臺的上方的構架(frame)等的支持部延伸設置垂直的支柱，在該垂直的支柱，將保持該吸附板成可反轉的升降構件安裝成可升降。該升降構件，以如下方式形成：為了使其升降對于反轉為必要的距離而借由移動行程較長的流體汽缸或利用齒條與齒輪(pinion)等構成復雜的構造的升降機構進行升降。

在如上述般的吸附反轉裝置，存在有如下的問題點：借由垂直的支柱、或沿著此進行升降的升降構件、以及裝入于內部的復雜的升降機構而使升降裝置成為大型者、且機構變復雜并使成本變高。

專利文獻1：國際公開WO2005/053925號公報

專利文獻2：國際公開WO2002/057192號公報

有鑒于上述現有的吸附反轉裝置存在的缺陷，本發明人基于從事此類產品設計制造多年豐富的實務經驗及專業知識，并配合學理的運用，積極加以研究創新，以期創設一種新型的吸附反轉裝置，能夠改進一般現有的吸附反轉裝置，使其更具有實用性。經過不斷的研究、設計，并經過反復試作樣品及改進后，終于創設出確具實用價值的本發明。

發明內容

本發明的目的在于，克服現有的吸附反轉裝置存在的缺陷，而提供一種可以新穎的機構、更極為簡單的構造進行吸附板的上下動的吸附反轉裝置。

為了達成上述目的而在本發明中提出了如接下來的技術方案。亦即，本發明是吸附基板并使其反轉的吸附反轉裝置，具備由左右的側架支持的旋轉軸、呈水平地安裝于該旋轉軸并與旋轉軸一起旋動的支持構件、通過下壓構件而保持于該支持構件成能夠上下動的水平的吸附板、以及對該吸附板隨時以朝向上方的方式進行彈壓的回彈彈簧；且成為以如下方式形成的構成：借由使該下壓構件動作而使該吸附板往下動，借由解除該下壓構件下壓之力、并借由該回彈彈簧的彈壓力而使該吸附板上升并返回原位置。

在本發明的吸附反轉裝置中，由于形成為一旦解除下壓構件的下壓力，則借由回彈彈簧的彈壓力(復原力)而吸附板自然返回原位置，因此具有如下的效果：可省略用以使吸附板上升的機械性的機構，借此可以簡單的構成、且低成本形成吸附板的升降機構。

本發明的目的及解決其技術問題還可采用以下技術措施進一步實現。

在上述發明中，較佳為：下壓構件，由具備有活塞的氣缸構成，且該活塞形成為在開啟動作(ON動作)下進行往下動、在關閉動作(OFF動作)下解除下壓力，并且能夠調整開啟動作(ON動作)時的下壓量。借此，可根據基板的厚度等作業條件，而適當地調整吸附板的下降量。

此外，在上述發明中，較佳為：用于對氣缸供給空氣的空氣流路設于旋轉軸內部，且連接有從空氣流路至氣缸的空氣流通用的配管。

借此，在該吸附板反轉旋動時，與氣缸連接的配管不會扭結，并且可簡化與氣缸連接的配管設備。

本發明與現有技術相比具有明顯的優點和有益效果。借由上述技術方案，本發明吸附反轉裝置至少具有結構簡單、成本低廉、可適當調整吸附板的下降量等優點。