[發明專利]用于導彈探測識別的大視場光學成像方法及其系統無效
| 申請號: | 201310522502.6 | 申請日: | 2013-10-29 |
| 公開(公告)號: | CN103513409A | 公開(公告)日: | 2014-01-15 |
| 發明(設計)人: | 季軼群;石榮寶;周建康;王巖 | 申請(專利權)人: | 蘇州大學 |
| 主分類號: | G02B17/08 | 分類號: | G02B17/08;G02B27/00;G01J5/08 |
| 代理公司: | 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103 | 代理人: | 陶海鋒 |
| 地址: | 215123 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 導彈 探測 識別 視場 光學 成像 方法 及其 系統 | ||
1.一種用于導彈探測識別的大視場光學成像方法,其特征在于采用折反射式光學成像方法,包括如下步驟:將視場內光線成像于折疊平面反射鏡,得到的成像光束反射后再進行濾光,經像差校正和聚焦成像,在CCD探測器的焦平面上得到光學像。
2.一種用于導彈探測識別的大視場光學成像系統,其特征在于它為折反射光學系統,采用同軸折射結構,沿光線入射方向的光學元件依次為:彎月形球面負透鏡(1)、折疊平面反射鏡(2)、折疊平面反射鏡(3)、光學濾光片(4)、改進型的匹茲萬結構物鏡(5)、CCD保護玻璃(6)和像面(7),所有光學元件安裝于同一個鏡筒內;所述的改進型的匹茲萬結構物鏡用于對反射后再經濾光的成像光束進行像差校正和聚焦成像,改進型的匹茲萬結構物鏡包括第一雙膠合透鏡組(51)、第二雙膠合透鏡組(52)和一塊彎月形球面透鏡(53),所述的第一雙膠合透鏡組由正透鏡(511)和負透鏡(512)構成,第二雙膠合透鏡組由正透鏡(521)和負透鏡(522)構成,彎月形球面透鏡(53)的彎曲方向為背向像面;所述彎月形球面負透鏡、第一雙膠合透鏡組的正透鏡和負透鏡、第二雙膠合透鏡組的正透鏡和負透鏡、彎月形球面透鏡的焦距,它們相對于大視場光學系統焦距的歸一化值分別依次對應為f’1、f’511、f’512、f’521、f’522、f’53,滿足條件-348≤f’1≤-343、0.89≤f’511≤0.92、-1.13≤f’512≤-1.08、0.62≤f’521≤0.65、-2.51≤f’522≤-2.48、-1.14≤f’53≤-1.09;它們所用材料的折射率分別依次對應為n1、n511、n512、n521、n522、和n53,滿足條件1.45≤n1≤1.56、1.45≤n511≤1.56、1.73≤n512≤1.78、1.60≤n521≤1.65、1.72≤n522≤1.77、1.71≤n53≤1.76。
3.根據權利要求2所述的一種用于導彈探測識別的大視場光學成像系統,其特征在于:它的焦距f為18mm≤?f?≤21mm。
4.根據權利要求2所述的一種用于導彈探測識別的大視場光學成像系統,其特征在于:它的視場ω為0°≤ω≤25°。
5.根據權利要求1所述的一種用于導彈探測識別的大視場光學成像系統,其特征在于:它的鏡筒長度L為127mm≤L≤131mm。
6.根據權利要求1所述的一種彈載探測識別用的大視場光學系統,其特征在于:它的雜光系數η為0.35%≤η≤0.75%。
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