[發(fā)明專利]一種對位精度檢測方法及系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310518659.1 | 申請日： | 2013-10-29 |
| 公開（公告）號： | CN103529659A | 公開（公告）日： | 2014-01-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 王艷升;李顯杰 | 申請（專利權(quán)）人： | 天津芯碩精密機械有限公司 |
| 主分類號： | G03F9/00 | 分類號： | G03F9/00;G01B5/02;G01B5/24 |
| 代理公司： | 天津市三利專利商標(biāo)代理有限公司 12107 | 代理人： | 閆俊芬 |
| 地址： | 300457 天津市*** | 國省代碼： | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 對位 精度 檢測 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種對位精度檢測方法，其特征在于，包括如下步驟：
第1步，利用試驗板上的同一組對位標(biāo)記來進行對準(zhǔn)；
第2步，利用所述對位標(biāo)記進行第一次對準(zhǔn)曝光，曝出第一組標(biāo)尺；再次利用所述對位標(biāo)記進行第二次對準(zhǔn)曝光，曝出第二組標(biāo)尺；
第3步，所述試驗板顯影后觀察兩組標(biāo)尺完全對齊的刻度線，獲取X,Y兩個方向的偏移方向與偏移量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的對位精度檢測方法，其特征在于，所述試驗板為PCB或其它對位標(biāo)記載體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2中所述的對位精度檢測方法，其特征在于，所述第一次對準(zhǔn)曝光和所述第二次對準(zhǔn)曝光包括對試驗板進行重復(fù)對位曝光和層間對位曝光。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的對位精度檢測方法，其特征在于，所述兩組標(biāo)尺的原點刻度相鄰靠齊不重合，所述第一組標(biāo)尺的間距需要比所述第二組標(biāo)尺的間距大Xum，Xum則為此次檢測的最小精度，每組標(biāo)尺需要設(shè)計X與Y方向的標(biāo)尺用來監(jiān)控兩個方向的偏移量。
5.一種對位精度檢測系統(tǒng)，其特征在于，包括對準(zhǔn)單元、曝光單元、偏移觀察單元，所述對準(zhǔn)單元用于，利用試驗板上的同一組對位標(biāo)記來進行對準(zhǔn)；所述曝光單元用于，利用所述對位標(biāo)記進行第一次對準(zhǔn)曝光，曝出第一組標(biāo)尺；再次利用所述對位標(biāo)記進行第二次對準(zhǔn)曝光，曝出第二組標(biāo)尺；所述偏移觀察單元用于，所述試驗板顯影后觀察兩組標(biāo)尺完全對齊的刻度線，獲取X,Y兩個方向的偏移方向與偏移量。
6.根據(jù)權(quán)利要求5中所述的對位精度檢測系統(tǒng)，其特征在于，所述試驗板為PCB或其它對位標(biāo)記載體。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6中所述的對位精度檢測系統(tǒng)，其特征在于，所述第一次對準(zhǔn)曝光和所述第二次對準(zhǔn)曝光包括對試驗板進行重復(fù)對位曝光和層間對位曝光。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的對位精度檢測系統(tǒng)，其特征在于，所述兩組標(biāo)尺的原點刻度相鄰靠齊不重合，所述第一組標(biāo)尺的間距需要比所述第二組標(biāo)尺的間距大Xum，Xum則為此次檢測的最小精度，每組標(biāo)尺需要設(shè)計X與Y方向的標(biāo)尺用來監(jiān)控兩個方向的偏移量。
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