[發(fā)明專利]正型光阻組成物的用途

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310513432.8
• 申請日: 2013-10-25
• 公開（公告）號: CN103964698A
• 公開（公告）日: 2014-08-06
• 發(fā)明（設計）人: 黃新義;黃圣文;葉子瑭;籃偉仁
• 申請（專利權）人: 臺灣永光化學工業(yè)股份有限公司
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00;G06F3/041;G03F7/039
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 周長興

1.一種正型光阻組成物的用途，是使用于一玻璃的切割工藝，以形成一具有切割路徑的光阻膜，其中，該正型光阻組成物包括：

一15至50重量百分比的含苯基的堿可溶樹脂；

一2至15重量百分比的感光劑，其包括如下式(I)所示的官能基，

一0.1至10重量百分比的黏著增進劑；以及

余量溶劑。

2.如權利要求1所述的用途，其中，該含苯基的堿可溶樹脂為酚醛樹脂。

3.如權利要求1所述的用途，其中，該含苯基的堿可溶樹脂的重量平均分子量為5000至100,000。

4.如權利要求1所述的用途，其中，該感光劑為如下式(II)所示的化合物、如下式(III)所示的化合物、如下式(IV)所示的化合物、如下式(V)所示的化合物、如下式(VI)所示的化合物、或其混合物，

其中，

R₁、R₂及R₃各自獨立為氫或該式(I)所示的官能基，且R₁、R₂及R₃中的至少一者為該式(I)所示的官能基；

R₄、R₅及R₆各自獨立為氫或C_1-6烷基；

R₇、R₈及R₉各自獨立為氫或該式(I)所示的官能基，且R₇、R₈及R₉中的至少一者為該式(I)所示的官能基；且

R₁₀為氫或C_1-6烷基；

R₁₁、R₁₂及R₁₃各自獨立為氫或式(I)所示的官能基，且R₁₁、R12及R₁₃中的至少一者為式(I)所示的官能基；

R₁₄、R₁₅、R₁₆及R₁₇各自獨立為氫或式(I)所示的官能基，且R₁₄、R₁₅、R₁₆及R₁₇中的至少一者為式(I)所示的官能基；

R₁₈、R₁₉、R₂₀及R₂₁各自獨立為氫或式(I)所示的官能基，且R₁₈、R₁₉、R₂₀及R₂₁中的至少一者為式(I)所示的官能基。

5.如權利要求4所述的正型光阻組成物，其中，該感光劑是如下式(II-1)所示的化合物、如下式(III-1)所示的化合物、或其混合物，

其中，

R₁、R₂、R₃、R₇、R₈及R₉各自獨立為氫、下式(I-1)或下式(I-2)所示的官能基，R₁、R₂及R₃中的至少一者為該式(I-1)或該式(I-2)所示的官能基，且R₇、R₈及R₉中的至少一者為該式(I-1)或該式(I-2)所示的官能基，

R₄、R₅、R₆及R₁₀各自獨立為氫或C_1-6烷基。

6.如權利要求1所述的用途，其中，該黏著增進劑為1-乙烯基咪唑。

7.如權利要求1所述的用途，其中，該正型光阻組成物包括一0.2至20重量百分比的增感劑。

8.如權利要求1所述的用途，其中，該正型光阻組成物包括一0.005至0.5重量百分比的流平劑。

9.如權利要求1所述的用途，其中，該正型光阻組成物是用于一使用氫氟酸切割觸控面板強化玻璃的工藝。