[發(fā)明專利]一種旋混分散深度處理高濃度氨氮的除氨氮裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310509618.6
• 申請日: 2013-10-25
• 公開（公告）號(hào): CN103570128A
• 公開（公告）日: 2014-02-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 雷春生;王清
• 申請（專利權(quán)）人: 常州大學(xué)
• 主分類號(hào): C02F3/30
• 分類號(hào): C02F3/30
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種旋混分散深度處理高濃度氨氮的除氨氮裝置，包括一個(gè)圓柱形筒體（1），其特征在于：所述的筒體（1）高80~90cm，內(nèi)徑50~60cm，上下兩側(cè)分別設(shè)有進(jìn)水口（2）和出水口（3），頂部設(shè)有排氣口（4），筒體（1）內(nèi)部被兩塊間隔30~40cm的豎直擋板（5）隔成預(yù)處理區(qū)（6）、反應(yīng)區(qū)（7）和出水區(qū)（8）。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種旋混分散深度處理高濃度氨氮的除氨氮裝置，其特征在于：所述的預(yù)處理區(qū)（6）和出水區(qū)（8）分別連接進(jìn)水口（2）和出水口（3），預(yù)處理區(qū)（6）右側(cè)擋板（5）下部設(shè)有與反應(yīng)區(qū)（7）相通的連接口（9），反應(yīng)區(qū)（7）的底部設(shè)有沉淀槽（10），沉淀槽（10）底部與筒體（1）外部的排泥泵（11）相連，頂部5~8cm處設(shè)有內(nèi)徑4~6cm的氣體主管（12）和內(nèi)徑2~3cm的氣體支管（13），氣體支管（13）排列安裝在氣體主管（12）的兩側(cè)，氣體支管（13）上端連通有橫向的噴嘴（14），噴嘴（14）表面連接曝氣器（15），距離曝氣器（15）3~4cm的上方為填料層（16），填料層（16）厚度為40~50cm，上下兩端固定有孔徑10~12mm細(xì)孔格網(wǎng)（17），內(nèi)部交錯(cuò)排列有折流板（18），反應(yīng)區(qū)（7）右側(cè)擋板距離填料層（16）上端細(xì)孔格網(wǎng)8~12cm的上方設(shè)有與出水區(qū)（8）相通的溢流口（19）。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種旋混分散深度處理高濃度氨氮的除氨氮裝置，其特征在于：所述的曝氣器（15）為尼龍材質(zhì)的旋混曝氣器，曝氣頭（20）上密布有多層鋸齒（21）和0.1~0.2μm的微孔（22）。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種旋混分散深度處理高濃度氨氮的除氨氮裝置，其特征在于：所述的填料層（16）內(nèi)充滿直徑為15~18mm，密度為0.8~1.0g/m3球形懸浮填料。