[發明專利]一種含氰尾礦漿兩段法無害化處理工藝

無效

• 申請號: 201310507299.5
• 申請日: 2013-10-25
• 公開（公告）號: CN103523965A
• 公開（公告）日: 2014-01-22
• 發明（設計）人: 范亞鋒;李哲浩
• 申請（專利權）人: 長春黃金研究院
• 主分類號: C02F9/04
• 分類號: C02F9/04;C02F1/66;C02F1/72;C02F1/28
• 代理公司: 長春市四環專利事務所 22103
• 代理人: 張建成

1.一種含氰尾礦漿兩段法無害化處理工藝，該工藝是由礦漿濃縮步驟和氧化步驟構成；

所述礦漿濃縮步驟是利用濃密設備提升礦漿濃度到50%～55%，濃密后的上清液回用于選廠工藝，高濃度礦漿進入下一步處理流程，濃密原理是利用重力沉降進行固液分離；

所述的氧化步驟是采用OOT氧化法，氧化分兩個階段，第一階段加硫酸控制礦漿pH在9～10之間，通過氧化處理掉大部分的可釋放氰化物、硫氰根離子和還原性物質，使可釋放氰化物濃度低于30mg/L，硫氰根離子濃度低于10mg/L；第二階段加硫酸調整礦漿pH在7～8之間，加入協助氧化的藥劑硫酸鋅和硫酸銅，繼續使用OOT氧化法處理掉剩余的氰化物，使得剩余氰化物的總濃度低于0.5mg/L，同時，在第二氧化階段投加活性炭增強氧化效果，炭還具有吸附作用，能回收一部分尾礦漿中的金。