[發明專利]超臨界二氧化碳制備雙孔（Bimodal）結構的新方法無效
| 申請號： | 201310506954.5 | 申請日： | 2013-10-24 |
| 公開（公告）號： | CN104558670A | 公開（公告）日： | 2015-04-29 |
| 發明（設計）人： | 趙健;姬敏 | 申請（專利權）人： | 青島科技大學 |
| 主分類號： | C08J9/12 | 分類號： | C08J9/12;C08L25/06;C08K3/04;C08K7/00;C08K9/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 266042 山*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 臨界 二氧化碳 制備 bimodal 結構 新方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種超臨界二氧化碳制備聚合物雙孔（Bimodal）結構的材料的方法，具體步驟為：
A)多種填料以一定的比例在溶劑中混合均勻后，與聚合物材料均勻復合制備復合材料；
B)連接好反應裝置，檢查氣密性，一定厚度的聚合物復合材料放入反應釜中，保持設定溫度和壓力一定時間；
C)將反應釜快速泄壓，樣品置于冰水浴中冷卻得到雙孔復合材料；
D)冷卻后，取出樣品。
2.權利要求1所描述的方法，其中所述的填料可以是炭黑、活性炭、碳纖維、碳納米管、石墨烯、蒙脫土等。
3.權利要求1所描述的方法，其中所述的基體材料可以是聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乳酸等聚合物。
4.權利要求1所描述的方法，其中所述的發泡體系方法可以是超臨界二氧化碳或其它制備發泡材料體系或方法。
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