[發(fā)明專利]一種多晶硅鑄錠爐氬氣導(dǎo)流系統(tǒng)及其導(dǎo)流方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310505537.9 | 申請(qǐng)日: | 2013-10-24 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103590103A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-02-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蘇文佳;左然 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C30B28/06 | 分類號(hào): | C30B28/06;C30B29/06 |
| 代理公司: | 南京知識(shí)律師事務(wù)所 32207 | 代理人: | 汪旭東 |
| 地址: | 212013 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 多晶 鑄錠 爐氬氣 導(dǎo)流 系統(tǒng) 及其 方法 | ||
1.一種多晶硅鑄錠爐氬氣導(dǎo)流系統(tǒng),包括氬氣進(jìn)口直管(7)、石墨坩堝(12)和蓋在所述石墨坩堝(12)頂部的蓋板(8),所述氬氣進(jìn)口直管(7)穿過(guò)所述蓋板(8)將氬氣導(dǎo)入所述石墨坩堝(12)內(nèi),其特征在于,所述石墨坩堝(12)的開(kāi)口邊緣開(kāi)有若干凹槽(6),所述蓋板(8)和所述凹槽(6)構(gòu)成石墨坩堝的頂部側(cè)排氣口(15),所述頂部蓋板(8)上繞所述氬氣進(jìn)口直管(7)對(duì)稱分布若干蓋板排氣口(14),所述氬氣進(jìn)口直管(7)出口端與喇叭形進(jìn)口管(10)的進(jìn)口端連接,所述氬氣進(jìn)口直管(7)出口端側(cè)壁上沿氬氣進(jìn)口直管的中心軸線對(duì)稱分布有若干出口氣孔(9),所述喇叭形進(jìn)口管(10)的出口端與噴淋式進(jìn)口管(5)的進(jìn)口端連接,所述噴淋式進(jìn)口管(5)為有底管,所述噴淋式進(jìn)口管(5)的底部沿氬氣進(jìn)口直管的中心軸線對(duì)稱分布有若干底部氣孔(3),所述噴淋式進(jìn)口管(5)的側(cè)壁上也沿氬氣進(jìn)口直管的中心軸線對(duì)稱開(kāi)有若干側(cè)壁氣孔(4)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多晶硅鑄錠爐氬氣導(dǎo)流系統(tǒng),其特征在于,所述凹槽(6)的形狀為圓形或三角形或多邊形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多晶硅鑄錠爐氬氣導(dǎo)流系統(tǒng),其特征在于,所述蓋板排氣口(14)的形狀為圓形或三角形或多邊形。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多晶硅鑄錠爐氬氣導(dǎo)流系統(tǒng),其特征在于,所述出口氣孔(9)的形狀為圓形或三角形或多邊形。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多晶硅鑄錠爐氬氣導(dǎo)流系統(tǒng),其特征在于,所述底部氣孔(3)的形狀為圓形或三角形或多邊形。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多晶硅鑄錠爐氬氣導(dǎo)流系統(tǒng),其特征在于,所述側(cè)壁氣孔(4)的形狀為圓形或三角形或多邊形。
7.一種多晶硅鑄錠爐氬氣導(dǎo)流系統(tǒng)的導(dǎo)流方法,包括如下步驟:
A?在多晶硅熔料階段,向上提升氬氣進(jìn)口直管(7),使喇叭形進(jìn)口管(10)的進(jìn)口端與蓋板(8)接觸,保證氬氣流量為10-100?slm,以減少氬氣對(duì)熔體硅的冷卻作用;
B?在晶體硅生長(zhǎng)和收尾階段,向下移動(dòng)氬氣進(jìn)口直管(7),使噴淋式進(jìn)口管(5)的底部與熔體硅自由表面距離為10-200?mm,氬氣流量為20-100?slm。
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