[發明專利]LPCVD設備的溫控時滯系統自校正方法與裝置有效
| 申請號: | 201310503909.4 | 申請日: | 2013-10-23 |
| 公開(公告)號: | CN103543742A | 公開(公告)日: | 2014-01-29 |
| 發明(設計)人: | 王峰;王健;孫少東 | 申請(專利權)人: | 北京七星華創電子股份有限公司 |
| 主分類號: | G05B23/02 | 分類號: | G05B23/02;G05B13/04 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人: | 李相雨 |
| 地址: | 100015 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | lpcvd 設備 溫控 系統 校正 方法 裝置 | ||
1.一種LPCVD設備的溫控時滯系統自校正方法,其特征在于,該方法包括以下步驟:
1)對LPCVD設備各個溫控區建立包含時滯誤差的PID控制模型;
2)建立包含處理大時滯環節權重系數的比例,積分,微分控制項的自校正調節項和前饋模型,并確定已建立的權重系數取值范圍;
3)建立監督控制項,用于加強LPCVD設備的溫控時滯系統的穩定性。
2.根據權利要求1所述的一種LPCVD設備的溫控時滯系統自校正方法,其特征在于,所述步驟1)的PID控制模型的構建方式為使用增量式方式模型,該模型為
Δui(t-τ)=(Kip(t)+ΔKip(t))(ei(t)-ei(t-1))+(Kii(t)+ΔKii(t))ei(t)+(Kid(t)+ΔKid(t))(ei(t)-2ei(t-1)+ei(t-2))
式中,i為溫區的序號;t為時刻;ei(t),ei(t-1)和ei(t-2)分別為第t,第t-1和第t-2時刻所得的誤差信號;Δui(t)為控制器增量;Kip為比例系數,Kii為積分系數,Kid為微分系數。
3.根據權利要求1所述的一種LPCVD設備的溫控時滯系統自校正方法,其特征在于,所述步驟2)中使用
構建含權重系數的比例調整規則控制模型,
其中ΔKip(t)為比例自校正調整項,αi11、αi12為調整項的權重系數、ei(t)為誤差信號,Ri11和Ri12為等效抵消時滯環節的比例前饋,ε為達到性能指標的誤差值。
4.根據權利要求1所述的一種LPCVD設備的溫控時滯系統自校正方法,其特征在于,所述步驟2)中使用
構建含權重系數的積分調整規則控制模型,
其中ΔKii(t)為積分自校正調整項,αi21、αi22為調整項的權重系數、ei(t)為誤差信號,Ri21和Ri22為等效抵消時滯環節的積分前饋,ε為達到性能指標的誤差值。
5.根據權利要求1所述的一種LPCVD設備的溫控系統自校正方法,其特征在于,所述步驟2)中使用
構建含權重系數的微分調整規則控制模型,
其中ΔKid(t)為積分自校正調整項,αi31、αi32為調整項的權重系數、ei(t)為誤差信號,Ri31和Ri32為等效抵消時滯環節的微分前饋,ε為達到5性能指標的誤差值。
6.根據權利要求3-5任一項所述的一種LPCVD設備的溫控系統自校正方法,其特征在于,αi11,αi21,αi31,αi12,αi22和αi32的取值范圍為0-1。
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