[發明專利]一種用于硬組織替代材料的石墨烯摻雜硅酸鈣涂層的制備方法

有效

• 申請號: 201310503121.3
• 申請日: 2013-10-23
• 公開（公告）號: CN103536966A
• 公開（公告）日: 2014-01-29
• 發明（設計）人: 謝有桃;鄭學斌;李虹慶;黃利平
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海硅酸鹽研究所
• 主分類號: A61L27/30
• 分類號: A61L27/30;C23C4/04
• 代理公司: 上海海頌知識產權代理事務所(普通合伙) 31258
• 代理人: 何葆芳

1.一種用于硬組織替代材料的石墨烯摻雜硅酸鈣涂層的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

a）將硅酸鈣和石墨烯一起進行濕法球磨，得到懸浮液，將所述懸浮液進行干燥后獲得硅酸鈣/石墨烯球狀復合粉體；

b）將步驟a）中得到的硅酸鈣/石墨烯球狀復合粉體利用真空等離子體噴涂法噴涂在基材表面，形成石墨烯摻雜硅酸鈣涂層。

2.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟a)包括如下操作：取粒徑為10～150μm的塊狀或顆粒狀硅酸鈣，向其中加入石墨烯片，然后按粉球比1：20加入氧化鋯陶瓷球，再加入蒸餾水和粘合劑，濕法球磨2～8小時后進行噴霧干燥；其中，石墨烯片在由硅酸鈣、蒸餾水、粘合劑和石墨烯片組成的混合物中所占的質量分數為0.5～4%。

3.如權利要求2所述的制備方法，其特征在于：所述粘合劑為聚乙烯醇水溶液，其質量分數為2～8%。

4.如權利要求2所述的制備方法，其特征在于：所述塊狀或顆粒狀硅酸鈣的粒徑為40～100μm。

5.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟b)中所述的真空等離子體噴涂法的工藝參數為：等離子體氣體Ar的流量為32～45標準升/分鐘，等離子體氣體H₂的流量為5～15標準升/分鐘，粉末載氣Ar的流量為1.5～3.0標準升/分鐘，噴涂距離為250～400毫米，噴涂電流為600～700安培，真空度為50～300毫巴。

6.如權利要求1所述的制備方法，其特征在于：步驟b)中所述的基材為鈦金屬或鈦合金。