[發(fā)明專利]一種n型外延襯底激光二極管有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310500560.9 | 申請日: | 2013-10-22 |
| 公開(公告)號: | CN103594929A | 公開(公告)日: | 2014-02-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 叢國芳 | 申請(專利權(quán))人: | 溧陽市東大技術(shù)轉(zhuǎn)移中心有限公司 |
| 主分類號: | H01S5/343 | 分類號: | H01S5/343 |
| 代理公司: | 南京天翼專利代理有限責(zé)任公司 32112 | 代理人: | 黃明哲 |
| 地址: | 213300 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 外延 襯底 激光二極管 | ||
1.一種n型外延襯底激光二極管,其特征在于:包括藍寶石襯底,在藍寶石襯底上具有n-GaN外延襯底,在n-GaN外延襯底上具有發(fā)光結(jié)構(gòu);
其中,所述發(fā)光結(jié)構(gòu)設(shè)置于n型外延襯底的中部區(qū)域,該發(fā)光結(jié)構(gòu)由下至上依次具有n型界面層、發(fā)光層、p型界面層、p型注入層以及p電極;n-GaN外延襯底的外圍區(qū)域上具有n電極;
其中,所述p型注入層為空穴注入層;
所述n電極環(huán)繞所述發(fā)光結(jié)構(gòu);所述n電極的厚度不大于n型界面層的厚度,并且n電極與n型界面層之間具有空隙。
2.如權(quán)利要求1所述的n型外延襯底激光二極管,其特征在于:
其中,n型界面層是n-AlxInyGa1-x-yN,0<x≤1,0<y≤1并且x+y≤1;
其中,發(fā)光層是超晶格結(jié)構(gòu)的多量子阱層,該多量子阱層的材料為ZnO/Zn1-aMgaO/Zn1-bAsbO,0<a≤0.2、0<b≤0.3;
其中,p型界面層為p-AlxInyGa1-x-yP,0<x≤1,0<y≤1并且x+y≤1;
其中,p型注入層為p型NiO注入層;
其中,p電極為Au、Pt、Pt/Ni、Au/Ni或ITO(氧化銦錫);n電極為In、Al、Ga、Ag或ITO。
3.如權(quán)利要求2所述的n型外延襯底激光二極管,其特征在于:
優(yōu)選地,0<x≤0.45,0<y≤0.55;0<a≤0.1、0<b≤0.15。
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