[發(fā)明專利]一種陣列式硅片裝載靶盤

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310500221.0
• 申請(qǐng)日: 2013-10-23
• 公開（公告）號(hào): CN103594553A
• 公開（公告）日: 2014-02-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 許波濤;易文杰;孫雪平
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國電子科技集團(tuán)公司第四十八研究所
• 主分類號(hào): H01L31/18
• 分類號(hào): H01L31/18;H01L21/683;H01J37/20
• 代理公司: 長沙正奇專利事務(wù)所有限責(zé)任公司 43113
• 代理人: 馬強(qiáng)

1.一種陣列式硅片裝載靶盤，包括帶外框體（14）的支撐臺(tái)（2）和支撐臺(tái)（2）上方安裝的N個(gè)呈水平陣列式排列的靜電吸附盤（1），其特征是，

所述硅片裝載靶盤還包括設(shè)在支撐臺(tái)（2）下凹空間內(nèi)的硅片頂架（3），硅片頂架包括用于支撐硅片的頂架框（7），并在支撐臺(tái)（2）下方設(shè)有控制硅片頂架（3）上下運(yùn)動(dòng)的頂架驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)（4）；

所述硅片頂架（3）的頂架框（7）上設(shè)有與對(duì)應(yīng)靜電吸附盤（1）連接的定位連接機(jī)構(gòu)；

????所述靜電吸附盤（1）內(nèi)設(shè)有靜電吸附盤冷卻液循環(huán)流道（13），靜電吸附盤（1）的底面設(shè)有向靜電吸附盤冷卻液循環(huán)流道（13）內(nèi)通入冷卻液的第二進(jìn)液口（15）、從靜電吸附盤冷卻液循環(huán)流道（13）內(nèi)排出冷卻液的第二出液口（16）；

所述支撐臺(tái)（2）內(nèi)設(shè)有支撐臺(tái)冷卻液進(jìn)液流道和支撐臺(tái)冷卻液出液流道，每個(gè)第二進(jìn)液口（15）下方的支撐臺(tái)冷卻液進(jìn)液流道上對(duì)應(yīng)設(shè)有一個(gè)第一進(jìn)液口（8），每個(gè)第二出液口（16）下方的支撐臺(tái)冷卻液出液流道上對(duì)應(yīng)設(shè)有一個(gè)第一出液口（9）；

所述第二進(jìn)液口（15）與對(duì)應(yīng)的第一進(jìn)液口（8）連接，而第二出液口（16）與對(duì)應(yīng)的第一出液口（9）連接。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述陣列式硅片裝載靶盤，其特征是，所述支撐臺(tái)（2）內(nèi)還設(shè)有支撐臺(tái)氣循環(huán)流道，靜電吸附盤（1）中設(shè)有上下導(dǎo)通的多個(gè)通氣孔（12），每個(gè)靜電吸附盤（1）下方的支撐臺(tái)氣循環(huán)流道上對(duì)應(yīng)設(shè)有向靜電吸附盤的通氣孔（12）中通入冷卻氣體的氣冷孔（10）。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述陣列式硅片裝載靶盤，其特征是，所述第一進(jìn)液口（8）、第一出液口（9）和氣冷孔（10）均從支撐臺(tái)（2）的底面向上凸起，且第一進(jìn)液口（8）、第一出液口（9）和氣冷孔（10）的頂面在同一平面。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述陣列式硅片裝載靶盤，其特征是，與同一個(gè)靜電吸附盤（1）中的第二進(jìn)液口（15）、第二出液口（16）、通氣孔對(duì)應(yīng)或連接的的第一進(jìn)液口（8）、第一出液口（9）、氣冷孔（10）呈T形排列。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述陣列式硅片裝載靶盤，其特征是，所述靜電吸附盤冷卻液循環(huán)流道（13）在靜電吸附盤1內(nèi)呈環(huán)形。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述陣列式硅片裝載靶盤，其特征是，所述靜電吸附盤（1）上的通氣孔（12）均勻分布在靜電吸附盤（1）內(nèi)周。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述陣列式硅片裝載靶盤，其特征是，所述第一進(jìn)液口（8）與對(duì)應(yīng)的第二進(jìn)液口（15）、第一出液口（9）與對(duì)應(yīng)的第二出液口（16）分別通過密封圈密封。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述陣列式硅片裝載靶盤，其特征是，所述N=6，6個(gè)靜電吸附盤（1）呈三排兩列排列。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述陣列式硅片裝載靶盤，其特征是，所述定位連接機(jī)構(gòu)包括設(shè)在頂架框（7）頂面的頂柱（6）、與每個(gè)頂柱（6）對(duì)應(yīng)的設(shè)在靜電吸附盤（1）外周的缺口（11）。