[發明專利]沉積設備及利用該沉積設備制造有機發光顯示設備的方法

在審

• 申請號: 201310498599.1
• 申請日: 2013-10-22
• 公開（公告）號: CN103981494A
• 公開（公告）日: 2014-08-13
• 發明（設計）人: 崔修赫
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;H01L27/32;H01L51/56
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 劉燦強;劉奕晴

1.一種沉積設備，所述沉積設備包括：

腔體；

基底放置單元，位于所述腔體中，并且將基底放置在基底放置單元上；以及

濺射單元，用于在基底上形成薄膜，

其中，濺射單元包括第一靶材單元和面對第一靶材單元的第二靶材單元，

第一靶材單元和第二靶材單元被分別構造為安裝一對靶材，以及

第一靶材單元和第二靶材單元被構造為允許氬氣直接注入到所述一對靶材之間。

2.根據權利要求1所述的沉積設備，其中，濺射單元還包括：

第一側部和第二側部，彼此面對并接觸第一靶材單元和第二靶材單元的角部；以及

下表面部，在與第一靶材單元、第二靶材單元、第一側部和第二側部交叉的方向上延伸，

氬氣是通過在第一側部、第二側部和下表面部的至少一個中形成的進氣孔注入的。

3.根據權利要求2所述的沉積設備，其中，第一靶材單元包括用于冷卻安裝在第一靶材單元上的靶材的第一冷卻水流動路徑，

第二靶材單元包括用于冷卻安裝在第二靶材單元上的靶材的第二冷卻水流動路徑，

其中，第一冷卻水流動路徑和第二冷卻水流動路徑彼此分開以使冷卻水獨立地循環。

4.根據權利要求3所述的沉積設備，其中，第三冷卻水流動路徑形成在第一側部中，

第四冷卻水流動路徑形成在第二側部中，以及

第五冷卻水流動路徑形成在下表面部中。

5.根據權利要求4所述的沉積設備，其中，第三冷卻水流動路徑至第五冷卻水流動路徑彼此連接，并且第三冷卻水流動路徑至第五冷卻水流動路徑被構造為獨立于第一冷卻水流動路徑和第二冷卻水流動路徑使冷卻水循環。

6.根據權利要求4所述的沉積設備，其中，第三冷卻水流動路徑至第五冷卻水流動路徑中的一個連接到第一冷卻水流動路徑和第二冷卻水流動路徑中的一個，并且第三冷卻水流動路徑至第五冷卻水流動路徑中的另兩個冷卻水流動路徑連接到第一冷卻水流動路徑和第二冷卻水流動路徑中的另一個冷卻水流動路徑。

7.根據權利要求1所述的沉積設備，其中，第一靶材單元和第二靶材單元中的每個還包括在其靶材后側的磁場產生器，

其中，第一靶材單元的磁場產生器和第二靶材單元的磁場產生器被設置成使得它們的磁極彼此相對。

8.根據權利要求1所述的沉積設備，其中，濺射單元位于腔體的外部。

9.根據權利要求2所述的沉積設備，其中，所述一對靶材包含低液相線溫度材料。

10.根據權利要求9所述的沉積設備，其中，低液相線溫度材料包括從由錫氟磷酸鹽玻璃、硫屬化合物玻璃、亞碲酸鹽玻璃、硼酸鹽玻璃和磷酸鹽玻璃組成的組中選擇的至少一種。

11.一種沉積設備，所述沉積設備包括：

腔體；

基底放置單元，位于所述腔體中，并且將基底放置在基底放置單元上；以及

濺射單元，用于在基底上形成薄膜，

其中，濺射單元具有上端開口的長方體形狀，并且包括第一靶材單元和面對第一靶材單元的第二靶材單元，

第一靶材單元和第二靶材單元被分別構造為安裝一對靶材，以及

第一靶材單元和第二靶材單元被構造為使氬氣被直接注入到所述一對靶材之間。

12.根據權利要求11所述的沉積設備，其中，所述一對靶材包含低液相線溫度材料，低液相線溫度材料包括從由錫氟磷酸鹽玻璃、硫屬化合物玻璃、亞碲酸鹽玻璃、硼酸鹽玻璃和磷酸鹽玻璃組成的組中選擇的至少一種。

13.根據權利要求11所述的沉積設備，其中，所述濺射單元還包括：

第一側部和第二側部，彼此面對并且接觸第一靶材單元和第二靶材單元的角部；以及

下表面部，沿著與第一靶材單元、第二靶材單元、第一側部和第二側部交叉的方向延伸，

氬氣是通過在第一側部、第二側部和下表面部的至少一個中形成的進氣孔注入的。