[發明專利]壓印光刻

有效

• 申請號: 201310495547.9
• 申請日: 2006-12-20
• 公開（公告）號: CN103543602A
• 公開（公告）日: 2014-01-29
• 發明（設計）人: S·F·伍伊斯特;J·F·迪克斯曼;Y·W·克魯特-斯特格曼
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王鵬鑫

1.一種光刻設備，包括用來保持多個壓印模板的模板保持器和一個或多個將液體配送到所述多個壓印模板上的分配器。

2.如權利要求1所述的設備，其中，所述的一個或多個分配器是噴墨嘴。

3.如權利要求1所述的設備，其中，所述液體是壓印介質。

4.如權利要求1所述的設備，還包括用來保持基板的基板臺。

5.一種壓印光刻方法，包括將壓印介質施加到多個壓印模板的帶圖案的表面，然后將壓印模板與基板壓靠接觸，使得壓印介質被轉印至基板。

6.如權利要求5所述的方法，還包括用光化輻射照射該轉印的壓印介質，該光化輻射的波長適合于使該壓印介質固化。

7.如權利要求5所述的方法，還包括在壓印模板與基板壓靠接觸之前將平面層施加至所述基板。

8.一種光刻設備，包括用來保持多個壓印模板的模板保持器，所述模板保持器布置成使得當壓印模板被保持在模板保持器中時，這些壓印模板的最上表面基本上位于同一平面內。

9.如權利要求8所述的設備，其中，所述壓印模板保持器布置成使得當壓印模板被保持在模板保持器中時，這些壓印模板的最上表面與壓印模板保持器的最上表面基本上位于同一平面內。

10.一種光刻設備，包括：用來保持多個壓印模板的模板保持器；用來保持基板的基板保持器；光化輻射源；和輻射導向裝置，其布置成引導該光化輻射穿過該模板保持器，而不引導光化輻射穿過該壓印模板。

11.一種壓印光刻方法，包括：將聚合物和溶劑施加到壓印模板的帶圖案表面；使溶劑蒸發從而使得該聚合物成為固態；在基板上施加一層單體；將壓印模板與基板壓靠接觸，使得該聚合物被推抵至該單體層；和接觸之后，用光化輻射照射該單體層。

12.如權利要求11所述的方法，其中，所述單體層包括一定比例的聚合物。

13.一種壓印光刻方法，包括：將單體和聚合物的混合物施加到壓印模板的帶圖案表面上；將壓印模板與基板壓靠接觸；和接觸之后，用光化輻射對該單體和聚合物的混合物進行照射。

14.如權利要求13所述的方法，其中，該單體和聚合物的混合物的粘性足以使其與壓印模板接觸時不會破裂。

15.一種壓印光刻方法，包括：將壓印介質施加到壓印模板的帶圖案表面；將平面層施加到基板的表面，該壓印介質和該平面層都是液態的；和施加之后，將壓印模板與基板壓靠接觸。

16.如權利要求15所述的方法，還包括在壓印模板和基板接觸之后，用光化輻射對該壓印介質和該平面層進行照射。