[發(fā)明專利]一種制備新型導(dǎo)電氧化鋅鋁鎵材料及薄膜的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310494570.6 | 申請日: | 2013-10-21 |
| 公開(公告)號: | CN103510058A | 公開(公告)日: | 2014-01-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 黃信二 | 申請(專利權(quán))人: | 研創(chuàng)應(yīng)用材料(贛州)有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34;C23C14/06;C23C14/18;H01L31/20;H01L21/36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 制備 新型 導(dǎo)電 氧化鋅 材料 薄膜 方法 | ||
1.一種制備新型導(dǎo)電氧化鋅鋁鎵材料及薄膜的方法,其特征在于:所述氧化鋅鋁鎵靶材的氧化鋁質(zhì)量分?jǐn)?shù)含量在0.1-5.0wt%,氧化鎵的質(zhì)量分?jǐn)?shù)含量0.1-5.0?wt?%,余量為氧化鋅;使用氧化鋯球、純水及分散劑研磨充分混合氧化鋁、氧化鎵、氧化鋅粉末材料,研磨時間24小時,然后將漿料灌入三寸的多孔性模具中,經(jīng)過干燥后脫膜形成三元氧化物混合的低密度胚體,然后經(jīng)過1400-1550℃的高溫?zé)Y(jié),即能形成濺鍍用高密度靶材胚體;
成膜工藝:濺鍍薄膜時采用三明治結(jié)構(gòu),首先在玻璃或可撓性PET基板上先濺鍍10-75?nm的氧化鋅鋁鎵薄膜,接著濺鍍5-15nm的銀或銀合金薄膜,最后在濺鍍10-75?nm的氧化鋅鋁鎵薄膜,形成三明治結(jié)構(gòu)的薄膜,使得薄膜在<150℃狀態(tài)下濺鍍成膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備新型導(dǎo)電氧化鋅鋁鎵材料及薄膜的方法,其特征在于質(zhì)量比為:氧化鋁、氧化鎵和氧化鋅粉末重:氧化鋯球重:水重:分散劑重=1:3.0:0.25:0.02。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備新型導(dǎo)電氧化鋅鋁鎵材料及薄膜的方法,其特征在于分散劑為羧酸鹽類分散劑。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備新型導(dǎo)電氧化鋅鋁鎵材料及薄膜的方法,其特征在于濺鍍第一層和第三層氧化鋅鋁鎵薄膜的優(yōu)選厚度為10-50nm,銀或銀合金薄膜的厚度為5-10nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備新型導(dǎo)電氧化鋅鋁鎵材料及薄膜的方法,其特征在于純銀靶材的制備使用周波爐,在1100℃溶解純銀顆料,然后澆注在鑄鐵模具中在加工成靶材備用。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備新型導(dǎo)電氧化鋅鋁鎵材料及薄膜的方法,其特征在于:將玻璃或者PET基板、純銀靶材及氧化鋅鋁鎵靶材放入真空濺鍍機中,真空抽氣系統(tǒng)將濺鍍腔體背景壓力抽至0.7×10-5-0.9×10-5?torr后,利用氬氣當(dāng)作工作氣體,透過節(jié)流閥將通入氬氣控制濺鍍腔體的工作壓力為2×10-3torr,玻璃基板不加熱。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備新型導(dǎo)電氧化鋅鋁鎵材料及薄膜的方法,其特征在于:銀合金為Ag-0.5Ti或Ag-0.5Ti-1.0Cu。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備新型導(dǎo)電氧化鋅鋁鎵材料及薄膜的方法,其特征在于:所述氧化鋅鋁鎵靶材優(yōu)選氧化鋁質(zhì)量分?jǐn)?shù)含量在1-3wt%,氧化鎵的質(zhì)量分?jǐn)?shù)含量1-3?wt?%,余量為氧化鋅。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備新型導(dǎo)電氧化鋅鋁鎵材料及薄膜的方法,其特征在于:所述氧化鋅鋁鎵靶材最優(yōu)選氧化鋁質(zhì)量分?jǐn)?shù)含量在1.5wt%,氧化鎵的質(zhì)量分?jǐn)?shù)含量1.5?wt?%,余量為氧化鋅。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種制備新型導(dǎo)電氧化鋅鋁鎵材料及薄膜的方法,其特征在于:濺鍍第一層和第三層氧化鋅鋁鎵薄膜的還優(yōu)選厚度為15-25nm,銀或銀合金薄膜的厚度為8-10nm。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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