[發明專利]一種碲基三元納米線及其陣列的制備方法有效
| 申請號: | 201310491246.9 | 申請日: | 2013-10-18 |
| 公開(公告)號: | CN103526247A | 公開(公告)日: | 2014-01-22 |
| 發明(設計)人: | 張兵;許蕊;許友;趙為為;禚司飛 | 申請(專利權)人: | 天津大學 |
| 主分類號: | C25D5/18 | 分類號: | C25D5/18;C25D3/56;C25D7/12;H01L45/00;B82Y10/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 天津市北洋有限責任專利代理事務所 12201 | 代理人: | 王秀奎 |
| 地址: | 300072*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 三元 納米 及其 陣列 制備 方法 | ||
1.一種碲基三元納米線,其特征在于,由三種金屬元素In、Sb和Te組成,且沿長度方向和徑向均勻分布,按照下述步驟進行制備:
步驟1,制備電解液:配制pH=2.2緩沖溶液,并向所述緩沖溶液中加入氯化銻、氯化銦和亞碲酸鉀,完全溶解均勻;
步驟2,準備電解池:將模板的一面導電作為工作電極,同時在電解池中設置參比電極和對電極,并將步驟1制備的電解液轉移至電解池中,然后將電解池密封通入惰性氣體,以除去電解液中的溶解氧;
步驟3,進行電化學沉積:選擇進行差分脈沖電沉積,一個脈沖循環參數為在-1.4V下沉積50—300ms,然后-0.4V下沉積50—200ms,依照脈沖循環參數連續進行沉積30—40分鐘。
2.根據權利要求1所述的一種碲基三元納米線,其特征在于,所述碲基三元納米線長度為微米級,例如幾微米到幾十微米,2~20微米;直徑為納米數量級,例如100—120nm,選擇使用不同孔徑的模板以得到不同尺寸的納米線。
3.根據權利要求1所述的一種碲基三元納米線,其特征在于,所述三種金屬元素In、Sb、Te,沿徑向In、Sb、Te的摩爾含量為33%,36%、31%,;沿軸向In、Sb、Te的摩爾含量為33%,34%、33%。
4.一種碲基三元納米線的制備方法,其特征在于,按照下述步驟進行:
步驟1,制備電解液:配制pH=2.2緩沖溶液,并向所述緩沖溶液中加入氯化銻、氯化銦和亞碲酸鉀,完全溶解均勻;
步驟2,準備電解池:將模板的一面導電作為工作電極,同時在電解池中設置參比電極和對電極,并將步驟1制備的電解液轉移至電解池中,然后將電解池密封通入惰性氣體,以除去電解液中的溶解氧;
步驟3,進行電化學沉積:選擇進行差分脈沖電沉積,一個脈沖循環參數為在-1.4V下沉積50—300ms,然后-0.4V下沉積50—200ms,依照脈沖循環參數連續進行沉積30—40分鐘。
5.根據權利要求4所述的一種碲基三元納米線的制備方法,其特征在于,所述步驟1中,所述pH=2.2緩沖溶液按照下述方法進行準備:檸檬酸1.05g、氫氧化鈉0.42g、鹽酸0.8ml溶解在49.2ml水中,超聲分散成無色透明溶液;所述氯化銻、氯化銦和亞碲酸鉀分別為體系提供元素銻、銦和碲,三種元素的摩爾比為4:4:1,例如10mM氯化銻(SbCl3)、10mM氯化銦(InCl3)2.5mM亞碲酸鉀(K2TeO3)。
6.根據權利要求5所述的一種碲基三元納米線的制備方法,其特征在于,在所述步驟1中,選擇添加支持電解質硫酸鈉,每50mL緩沖溶液中添加0.7102g。
7.根據權利要求4所述的一種碲基三元納米線的制備方法,其特征在于,在所述步驟2中,選擇孔徑100nm的聚碳酸酯(PC)模板,通過噴金使其一面導電,作為工作電極使用;選擇飽和甘汞電極為參比電極,選擇鉑片電極為對電極,并選擇石英電解池。
8.根據權利要求4所述的一種碲基三元納米線的制備方法,其特征在于,在所述步驟2中,選擇通入惰性氣體的時間為20—30min,以除去電解液中的溶解氧,例如氮氣、氬氣或者氦氣。
9.根據權利要求4所述的一種碲基三元納米線的制備方法,其特征在于,在所述步驟3中,選擇室溫20—25攝氏度下進行差分脈沖電沉積。
10.根據權利要求4所述的一種碲基三元納米線的制備方法,其特征在于,在所述步驟3中,在進行差分脈沖電沉積時,一個脈沖循環參數為在-1.4V下沉積優選200—300ms,然后-0.4V下沉積優選100—200ms,依照脈沖循環參數連續進行沉積優選30min。
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