[發明專利]一種表面等離激元成像光刻結構無效
| 申請號： | 201310490996.4 | 申請日： | 2013-10-20 |
| 公開（公告）號： | CN103499913A | 公開（公告）日： | 2014-01-08 |
| 發明（設計）人： | 石建平;米佳佳;張青;張穎;姚敏 | 申請（專利權）人： | 安徽師范大學 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
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| 地址： | 24100*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 表面 離激元 成像 光刻 結構 | ||
【權利要求書】：
1.一種表面等離激元成像光刻結構，其特征在于：由超透鏡結構（1）、第一光柵（2）、抗蝕劑層（5）、基底（6）和第二光柵（7）組成,第一光柵（2）和第二光柵（7）位于超透鏡結構（1）的上方，抗蝕劑層（5）位于超透鏡結構(1)的下方。
2.根據權利要求1所述的表面等離激元成像光刻結構，其特征在于：所述的超透鏡結構（1）由多層介質膜（3）和多層金屬膜(4)交替構成，膜厚為10nm~100nm。
3.根據權利要求2所述的表面等離激元成像光刻結構，其特征在于：所述的介質膜(3)的材料為二氧化硅或氧化鎂或聚甲基丙烯酸甲酯，金屬膜(4)的材料為金或銀或鋁。
4.根據權利要求1所述的表面等離激元成像光刻結構，其特征在于：所述的第一光柵(2)和第二光柵(7)結構相同，周期為0.2~0.4倍入射波長，厚度50nm~80nm，材料為金或銀或鋁。
5.根據權利要求1所述的表面等離激元成像光刻結構，其特征在于：所述的第一光柵(2)和第二光柵(7)對稱排布在超透鏡結構(1)之上，間距為4~10倍光柵周期。
6.根據權利要求1所述的表面等離激元成像光刻結構，其特征在于：所述的抗蝕劑層(5)厚度為50nm~200nm。
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