[發(fā)明專(zhuān)利]在電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元中形成接觸以降低單元編程所需電壓的方法和裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310488552.7 | 申請(qǐng)日: | 2013-10-15 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103730571B | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-07-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | P·蘇塔爾德加;吳亞伯;W·李;P·李;常潤(rùn)滋 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 馬維爾國(guó)際貿(mào)易有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L45/00 | 分類(lèi)號(hào): | H01L45/00;H01L27/24;G11C13/00 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 酆迅 |
| 地址: | 巴巴多斯*** | 國(guó)省代碼: | 巴巴多斯;BB |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電阻 隨機(jī)存取存儲(chǔ)器 單元 形成 接觸 降低 編程 電壓 方法 裝置 | ||
電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器的單元包括電阻式元件和存取器件。電阻式元件包括(i)第一電極和(ii)第二電極。存取器件被配置為選擇和取消選擇單元。存取器件包括(i)連接至第一接觸的第一端子和(ii)連接至第二接觸的第二端子。第二接觸經(jīng)由第三接觸連接至電阻式元件的第二電極。第三接觸包括(i)與第二接觸相接觸的第一表面和(ii)與第二電極相接觸的第二表面。第一表面限定第一表面面積,并且第二表面限定第二表面面積。第一表面面積大于第二表面面積。
本申請(qǐng)要求于2012年10月15日提交的第61/713894號(hào)美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)。通過(guò)引用將上述被引用的申請(qǐng)的全部公開(kāi)內(nèi)容并入此處。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開(kāi)總體涉及電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(RRAM)單元,并且更具體地,涉及用于在RRAM單元中形成接觸以降低對(duì)RRAM單元編程所需電壓的技術(shù)。
背景技術(shù)
電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(RRAM)陣列包括布置于字線和位線相交處的RRAM單元。RRAM單元包括作為電阻式元件的絕緣材料(例如,電介質(zhì))。絕緣材料的電阻在電流在一個(gè)方向上流經(jīng)絕緣材料時(shí)增加,并且在電流在相反的方向上流經(jīng)絕緣材料時(shí)降低。因此,RRAM單元可以(i)通過(guò)讓電流在一個(gè)方向上流經(jīng)RRAM單元被編程為高電阻狀態(tài),并且(ii)通過(guò)讓電流在相反的方向上流經(jīng)RRAM單元被編程為低電阻狀態(tài)。高電阻狀態(tài)可以用來(lái)表示邏輯高(二進(jìn)制1),并且低電阻狀態(tài)可以用來(lái)表示邏輯低(二進(jìn)制0),反之亦然。
使用相反極性的電流被編程為高和低電阻狀態(tài)的RRAM單元被稱(chēng)為雙極型RRAM單元。備選地,RRAM單元可以通過(guò)讓兩種不同幅度的電流在相同方向上流經(jīng)RRAM單元的絕緣材料被編程為高和低電阻狀態(tài)。使用在相同方向上的兩種不同幅度的電流被編程為高和低電阻狀態(tài)的RRAM單元被稱(chēng)為單極型RRAM單元。
每個(gè)RRAM單元包括存取器件(諸如二極管或晶體管)。此存取器件與電阻式元件串聯(lián)連接。使用存取元件可以在讀和寫(xiě)操作期間選擇和取消選擇RRAM陣列中的RRAM單元。
發(fā)明內(nèi)容
電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器的單元包括電阻式元件和存取器件。電阻式元件包括(i)第一電極和(ii)第二電極。存取器件被配置為選擇和取消選擇單元。存取器件包括(i)連接至第一接觸的第一端子和(ii)和連接至第二接觸的第二端子。第二接觸經(jīng)由第三接觸連接至電阻式元件的第二電極。第三接觸包括(i)與第二接觸相接觸的第一表面和(ii)與第二電極相接觸的第二表面。第一表面限定第一表面面積,并且第二表面限定第二表面面積。第一表面面積大于第二表面面積。
在另一特征中,第三接觸具有棱錐或圓錐的形狀。
在另一特征中,單元還包括在第二接觸與第三接觸的第一表面之間的接口金屬層。
在另一特征中,第三接觸被部分地蝕刻以減小第三接觸的體積。
在其它特征中,電阻式元件包括與第二電極相鄰布置的第一過(guò)渡金屬氧化物層,以及與(i)第一過(guò)渡金屬氧化物層和(ii)第一電極相鄰布置的第二反應(yīng)金屬層。
在另一特征中,第一過(guò)渡金屬氧化物層靠近第一層的中心相對(duì)于第一層的其余部分更薄。
在其它特征中,電阻式元件的第一電極連接至第四接觸,并且連接至存取器件的第一端子的第一接觸經(jīng)由第五接觸連接至位線。
在其它特征中,第六接觸被布置于(i)連接至存取器件的第一端子的第一接觸與(ii)第五接觸之間,并且第六接觸具有第三接觸的結(jié)構(gòu)。
在另一特征中,電阻式元件被配置為(i)響應(yīng)于跨第一電極和第二電極施加第一電壓而具有第一電阻,并且(ii)響應(yīng)于跨第一電極和第二電極施加第二電壓而具有第二電阻。
在另一特征中,存取器件還包括連接至字線的控制端子。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于馬維爾國(guó)際貿(mào)易有限公司,未經(jīng)馬維爾國(guó)際貿(mào)易有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310488552.7/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 上一篇:固體粒塊換熱器
- 下一篇:錐帶式無(wú)級(jí)變速裝置
- 動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器結(jié)構(gòu)及操作方法
- 動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器初始化設(shè)定方法
- 存儲(chǔ)裝置管理裝置及用于管理存儲(chǔ)裝置的方法
- 靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器的合并內(nèi)建自我測(cè)試方法
- 計(jì)算裝置以及計(jì)算裝置的操作方法
- 動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器的測(cè)試方法、測(cè)試焊盤(pán)的設(shè)計(jì)方法、存儲(chǔ)器晶圓
- 用于存取動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器的計(jì)算系統(tǒng)以及相關(guān)存取方法
- 電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元
- 包括磁性隨機(jī)存取存儲(chǔ)器的半導(dǎo)體裝置
- 利用支撐條的動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元陣列及其制作方法





