[發明專利]離子除塵裝置在審
| 申請號: | 201310488463.2 | 申請日: | 2013-10-18 |
| 公開(公告)號: | CN103753017A | 公開(公告)日: | 2014-04-30 |
| 發明(設計)人: | 魏志凌;寧軍;李斌 | 申請(專利權)人: | 昆山思拓機器有限公司 |
| 主分類號: | B23K26/16 | 分類號: | B23K26/16 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215347 江蘇省蘇州市昆山*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 離子 除塵 裝置 | ||
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技術領域
本發明涉及激光加工領域,尤其是涉及一種激光加工中的除塵裝置。?
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背景技術
在激光加工領域中,不僅對激光設備的清潔度要求非常高,同時對待加工和加工的零部件的清潔度也要求很高,細小的粉塵如果粘附在激光設備中的光學元器件或要求清潔度高的待加工件或加工件上,極有可能造成激光在光路上的能量損耗,由此造成加工過程中的質量問題,同時,細小粉塵粘附在要求清潔度高的待加工件或加工件上,也極易造成此類產品的報廢,因此吸塵系統必須能夠高效除塵;通常的除塵裝置可以將正常的粉塵吸除掉,但粉塵本身也極易攜帶靜電,由此其粘著力會更強,因此必須先除去其攜帶的靜電,才能更好的將其除去。?
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發明內容
有鑒于此,需要克服現有技術中的上述缺陷中的至少一個。本發明提供了一種離子除塵裝置,該裝置可以通過離子發生器形成離子風,除去粉塵攜帶的靜電,在利用正常的吸塵能力,對粉塵進行吸除,可以在激光加工過程中形成良好的效果。?
根據本發明的一種離子除塵裝置包括至少一個的離子風發生器、至少一個的吸塵管、支撐,所述支撐為兩端具有開口、四周封閉的開放容器;?
所述離子風發生器安裝在所述支撐內部,產生離子風;
所述吸塵管安裝在所述支撐的外側,用于吸收粉塵。
根據本專利背景技術中對現有技術所述,激光刻蝕加工時,材料會產生灰塵,如果有灰塵落到產品之上,會導致產品報廢,所以設備自帶的吸塵系統必須能高效除塵,但是粉塵往往會帶有少許靜電,只要少量灰塵粘附到設備及產品之上,在造成設備加工問題的同時,也會對產品造成影響,嚴重者可以報廢,并能對設備光學器件污染;而本發明公開的離子除塵裝置通過離子發生器形成離子風,除去粉塵攜帶的靜電,在利用正常的吸塵能力,對粉塵進行吸除,可以在激光加工過程中形成良好的效果。?
另外,根據本發明公開的離子除塵裝置還具有如下附加技術特征:?
進一步地,所述支撐為矩形體結構,一端開放,另一端具有一個中間具有矩形開口的頂蓋。
進一步地,所述的離子除塵裝置,其特征在于,所述離子風發生器為離子風棒,所述離子風棒為2個。?
更進一步地,所述離子風棒對稱安裝在所述矩形體結構的內部,所述離子風棒的兩端固定在所述矩形體結構相對的兩個側壁上形成兩橫梁結構。?
進一步地,所述吸塵管為兩個,對稱安裝在所述矩形體結構的相對的兩側壁外側。?
進一步地,離子除塵裝置還包括懸掛安裝結構,使其安裝在除塵系統中。?
本發明附加的方面和優點將在下面的描述中部分給出,部分將從下面的描述中變得明顯,或通過本發明的實踐了解到。?
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附圖說明
本發明的上述和/或附加的方面和優點從下面結合附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解,其中:?
圖1顯示了本發明的離子除塵裝置立體示意圖;
圖2顯示了本發明的離子除塵裝置俯視示意圖;
圖3顯示了本發明的離子除塵裝置正視示意圖。
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圖中,1離子風棒,2吸塵管,3支架,4頂蓋,5懸掛安裝結構。
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具體實施方式
下面詳細描述本發明的實施例,所述實施例的示例在附圖中示出,其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的,僅用于解釋本發明,而不能解釋為對本發明的限制。?
此處,需要說明的是,在本發明的描述中,需要理解的是,方位術語如?“上”、“下”、“底”、“頂”、“前”、“后”、“內”、“外”、“橫”、“豎”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系,僅是為了便于描述本發明和簡化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作,因此不能理解為對本發明的限制。?
在本發明的描述中,需要說明的是,除非另有明確的規定和限定,術語“聯接”、“連通”、“相連”、“連接”、“配合”、“安裝”等應做廣義理解,例如,可以是固定連接,一體地連接,也可以是可拆卸連接;可以是兩個元件內部的連通;可以是直接相連,也可以通過中間媒介間接相連;“配合”可以是面與面的配合,也可以是點與面或線與面的配合,也包括孔軸的配合,對于本領域的普通技術人員而言,可以具體情況理解上述術語在本發明中的具體含義。?
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