[發明專利]一種涂布機及其塵粒檢測、清除方法

在審

• 申請號: 201310487618.0
• 申請日: 2013-10-17
• 公開（公告）號: CN104549945A
• 公開（公告）日: 2015-04-29
• 發明（設計）人: 郭楊辰;方群
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: B05D3/00
• 分類號: B05D3/00;B05D3/12;G01B11/00
• 代理公司: 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270
• 代理人: 王黎延;張振偉

1.一種涂布機，包括：用于承載基板的機臺、對基板進行涂布的構臺、構臺上設置的噴嘴；其特征在于，所述機臺上在所述構臺的左右兩側各設置有一條方向與所述構臺的運動方向平行的導軌，一條導軌上載有第一光發射器，另一條導軌上載有第一光接收器；所述機臺上在所述構臺的前后兩側各設有一條方向與所述構臺運動方向垂直的導軌，一條導軌上載有第二光發射器，另一條導軌上載有第二光接收器；

其中，所述第一光接收器用于接收所述第一光發射器發出的光；所述第二光發射器用于接收所述第二光發射器發出的光。

2.根據權利要求1所述的涂布機，其特征在于，所述第一光發射器與第一光接收器等高、且相對；所述第二光發射器與第二光接收器等高、且相對。

3.根據權利要求1所述的涂布機，其特征在于，所述第一、二光發射器與所述第一、二光接收器距離機臺上所承載基板的表面高度大于80微米，小于99微米。

4.根據權利要求1所述的涂布機，其特征在于，所述塵粒清潔裝置設置于構臺前側的底部。

5.根據權利要求1-4中任一項所述的涂布機，其特征在于，所述構臺前側的底部設置的導軌上載有第二光發射器、或第二光接收器，所述第二光發射器、或第二光接收器通過支架載于所述導軌上。

6.根據權利要求5所述的涂布機，其特征在于，所述支架通過所述導軌設置于所述構臺的前側。

7.根據權利要求5所述的涂布機，其特征在于，所述塵粒清潔裝置通過所述支架設置于構臺前側的底部。

8.根據權利要求5所述的涂布機，其特征在于，所述塵粒清潔裝置由分別設置于支架上的塵粒捕捉單元和塵粒吸附單元組成。

9.根據權利要求8所述的涂布機，其特征在于，所述塵粒捕捉單元為電荷耦合元件圖像傳感器。

10.根據權利要求8所述的涂布機，其特征在于，所述塵粒吸附單元由可伸縮抽氣閥和與所述可伸縮抽氣閥相連通的抽氣泵組成。

11.根據權利要求10所述的涂布機，其特征在于，所述可伸縮抽氣閥的中心位置與所述塵粒捕捉單元的中心位置在涂布方向上位于同一直線上。

12.一種塵粒檢測、清除方法，其特征在于，利用權利要求1-10中任一項所述的涂布機，該方法包括：

在塵粒預掃描過程中，第一光發射器和第一光接收器沿各自的導軌同速同向運動，第二光發射器和第二光接收器沿各自的導軌同速同向運動，對塵粒坐標進行檢測；

塵粒坐標確定后，通過構臺前側設置的塵粒清潔裝置清除所述塵粒。

13.根據權利要求12所述的方法，其特征在于，所述第一光發射器、第一光接收器、第二光發射器和第二光接收器的運行時長均相同；且所述第一光發射器、第一光接收器、第二光發射器和第二光接收器的運行的起始和結束時間點重合。

14.根據權利要求12或13所述的方法，其特征在于，所述塵粒坐標確定后，通過構臺前側設置的塵粒清潔裝置清除所述塵粒，包括：

塵粒坐標確定后，所述構臺移動到所述塵粒縱坐標位置處，此時設置有塵粒清潔裝置的支架沿導軌移動到塵粒橫坐標位置處，通過所述塵粒清潔裝置中的所述塵粒捕捉單元捕捉到所述塵粒，隨后構臺向前移動，使所述塵粒吸附單元中的可伸縮抽氣閥對準所述塵粒，并伸出所述可伸縮抽氣閥，抽氣泵快速抽氣，利用瞬間吸力將塵粒吸入。

15.根據權利要求12或13所述的方法，其特征在于，該方法還包括：檢測所述塵粒是否已清除，如果未清除干凈，則再次清除。

16.根據權利要求15所述的方法，其特征在于，該方法還包括：設置所述再次清除的次數，塵粒清除過程中，如果達到設置的清除次數，則終止所述塵粒清除操作。