[發明專利]鈦基表面含羥基磷灰石復合生物膜的制備工藝

無效

• 申請號: 201310486828.8
• 申請日: 2013-10-17
• 公開（公告）號: CN103498183A
• 公開（公告）日: 2014-01-08
• 發明（設計）人: 趙全明;程力
• 申請（專利權）人: 趙全明
• 主分類號: C25D11/26
• 分類號: C25D11/26
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.鈦基表面含羥基磷灰石復合生物膜的制備工藝，其特征在于，具體步驟如下：

步驟一，鈦或鈦合金表面富含鈣磷微弧氧化生物膜的制備：

配制含鈣磷的微弧氧化電解質溶液，將表面打磨拋光后的鈦或鈦合金完全浸沒在微弧氧化電解液中；以鈦或鈦合金為陽極，不銹鋼為陰極，兩極間距為5-10cm，采用脈沖電源進行微弧氧化，整個過程中控制電解液的溫度在25℃以下，微弧氧化時間為5-30min；反應結束后取出樣品，即可在鈦基表面生成一層富含鈣磷的生物陶瓷膜，去離子水充分沖洗去除該陶瓷氧化膜表面的殘留電解液，烘干備用；

步驟二，鈦或鈦合金表面含羥基磷灰石復合生物膜的制備：

對上述微弧氧化處理后的鈦或鈦合金進行微波水熱處理，反應介質為堿性溶液，反應溫度為120-160℃，反應時間為30-120min，反應結束后取出樣品，自然晾干，即可在鈦基表面生成含羥基磷灰石的復合生物膜。

2.?根據權利要求1所述的鈦基表面含羥基磷灰石復合生物膜的制備工藝，其特征在于步驟一中的含鈣磷微弧氧化電解液的配制方法為：將?的乙酸鈣和?的β-甘油磷酸鈣溶于去離子水中，充分攪拌混勻，靜置30-60min后備用。

3.根據權利要求1所述的鈦基表面含羥基磷灰石復合生物膜的制備工藝，其特征在于步驟一中的微弧氧化的工藝參數為：電壓為300-600V,電流密度為3-6A/dm²，占空比為10-30%，頻率為500-800Hz，氧化時間為5-30?min。

4.根據權利要求1所述的鈦基表面含羥基磷灰石復合生物膜的制備工藝，其特征在于步驟二中的加熱方法為微波加熱。

5.根據權利要求1所述的通過微弧氧化和微波水熱處理技術在鈦基表面制備的復合生物膜，其特征在于該復合生物膜有三層結構：內層為致密的二氧化鈦，中間為多孔結構，表層為納米纖維狀的羥基磷灰石，由于該膜層從鈦基表面原位生長，且呈犬牙交錯，鋸齒狀咬合與鈦基結合，因此膜層與鈦基體具有較高的結合強度。