[發(fā)明專利]一種水平井錄井導(dǎo)向軌跡優(yōu)化方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310486691.6
• 申請(qǐng)日: 2013-10-17
• 公開（公告）號(hào): CN103510855A
• 公開（公告）日: 2014-01-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周文君;吳章武;李金順;成萍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)石油集團(tuán)渤海鉆探工程有限公司
• 主分類號(hào): E21B7/04
• 分類號(hào): E21B7/04
• 代理公司: 衡水市盛博專利事務(wù)所 13119
• 代理人: 李志華

1.一種水平井錄井導(dǎo)向軌跡優(yōu)化方法，其特征在于：

著陸前的軌跡優(yōu)化包括以下步驟：?

第一步?確定新靶點(diǎn)位置

在井眼軌跡剖面中，當(dāng)井深鉆至變軌點(diǎn)時(shí)，隨鉆分析認(rèn)為目標(biāo)層已下移，如把原靶點(diǎn)直接垂向移動(dòng)一段距離，則變軌點(diǎn)將出現(xiàn)一個(gè)拐點(diǎn)；為實(shí)現(xiàn)在變軌點(diǎn)的共切點(diǎn)變軌，通過(guò)計(jì)算確定新靶點(diǎn)位置；

第二步?推算新軌跡半徑

用變軌點(diǎn)和新靶點(diǎn)坐標(biāo)，計(jì)算出變軌點(diǎn)至新靶點(diǎn)的弧線半徑；

第三步?設(shè)計(jì)新靶點(diǎn)軌跡

用水平井導(dǎo)向分析軟件，依據(jù)變軌點(diǎn)坐標(biāo)、新靶點(diǎn)坐標(biāo)、新軌跡半徑，計(jì)算出變軌點(diǎn)至新靶點(diǎn)的弧線軌跡，消除在變軌點(diǎn)和入層點(diǎn)的兩個(gè)軌跡拐點(diǎn)，保持著陸前軌跡的總體圓滑；

進(jìn)層后軌跡優(yōu)化包括以下步驟：

第四步??設(shè)定峰谷控制線，建立軌跡控制點(diǎn)

在目標(biāo)層剖面中，按照設(shè)計(jì)允許的上下振蕩幅度，設(shè)定軌跡峰頂和谷底控制線，依據(jù)巖層展布形態(tài)、井下鉆具造斜能力在軌跡峰頂和谷底控制線之間，建立所需的軌跡控制點(diǎn)；

第五步??建立第一段軌跡

在第一段相鄰控制點(diǎn)之間，依據(jù)軌跡控制點(diǎn)之間的弦長(zhǎng)和弧高，計(jì)算出第一段軌跡的弧半徑，依據(jù)第一段軌跡的弧半徑，用錄井導(dǎo)向軟件計(jì)算出第一段弧線作為設(shè)計(jì)軌跡；

第六步??建立第二段及以后各段軌跡?

在第一段軌跡基礎(chǔ)上，再建立第二段軌跡，兩段軌跡必須在相交點(diǎn)位形成共切點(diǎn)，以保持軌跡轉(zhuǎn)換的圓滑，依據(jù)第一段軌跡參數(shù)和第二段軌跡控制點(diǎn)坐標(biāo)，計(jì)算出第二段弧半徑，再用錄井導(dǎo)向軟件計(jì)算出第二段軌跡，以此再推算第三段、第四段至更多段軌跡，最終形成層內(nèi)整體的低幅長(zhǎng)波軌跡。