[發(fā)明專利]單分子檢測用掃描分析器和使用方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310484661.1 | 申請日： | 2008-12-18 |
| 公開（公告）號： | CN103543094B | 公開（公告）日： | 2017-06-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 理查德.A.利文斯頓 | 申請（專利權(quán)）人： | 神谷來克斯公司 |
| 主分類號： | G01N15/14 | 分類號： | G01N15/14;G01N21/64 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務(wù)所11105 | 代理人： | 劉蕾 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 分子 檢測 掃描 分析器 使用方法 | ||
1.一種分析器，包括：
(a)電磁輻射源；
(b)用于將來自所述電磁輻射源的電磁輻射導(dǎo)向包含處理樣品的樣品容器中的詢問空間的系統(tǒng)；
(c)用于在處理樣品被包含在所述樣品容器中時使所述詢問空間移動通過處理樣品的至少一部分的遷移系統(tǒng)；
(d)用于檢測從所述詢問空間發(fā)射的電磁輻射的檢測器，和
(e)與所述檢測器可操作地相連的處理器，其中所述處理器通過如下方式在多個時段的每個中測定對應(yīng)于所述詢問空間中分析物的標(biāo)記的存在：測定沒有標(biāo)記時對應(yīng)于所述詢問空間中背景光子水平的閾值光子水平，和確認(rèn)具有大于所述閾值光子水平的光子值的時段；和
其中所述處理器通過如下方式測定處理樣品中分析物的存在或量：將所述具有大于所述閾值光子水平的光子值的時段的數(shù)目與處理樣品中分析物的存在或量相關(guān)聯(lián)。
2.如權(quán)利要求1所述的分析器，其中所述遷移系統(tǒng)能在線性路徑和非線性路徑中的一個或多個中遷移所述詢問空間。
3.如權(quán)利要求1所述的分析器，所述樣品容器是如下表面：其將至少一個處理樣品限制在該表面上，且所述遷移系統(tǒng)在該表面上使所述詢問空間遷移通過處理樣品。
4.如權(quán)利要求1所述的分析器，其中所述樣品容器是孔。
5.如權(quán)利要求4所述的分析器，其中所述孔與微滴定板相關(guān)。
6.如權(quán)利要求1所述的分析器，其中所述詢問空間的體積為15μm3～11000μm3。
7.如權(quán)利要求1所述的分析器，其中所述詢問空間的體積為200μm3～3000μm3。
8.如權(quán)利要求1所述的分析器，其中所述詢問空間的體積為500μm3～600μm3。
9.如權(quán)利要求1所述的分析器，其中所述分析物附在所述樣品容器的表面上。
10.如權(quán)利要求1所述的分析器，還包含顯微鏡物鏡，其中所述顯微鏡物鏡的視場深度和成像于所述顯微鏡物鏡的光圈直徑共同限定了所述詢問空間。
11.如權(quán)利要求1所述的分析器，還包含顯微鏡物鏡，其中所述顯微鏡物鏡的視場深度和電磁輻射束的側(cè)向幅度共同限定了所述詢問空間。
12.如權(quán)利要求1所述的分析器，其中所述遷移系統(tǒng)被構(gòu)造和設(shè)置為使所述詢問空間遷移通過處理樣品的所述部分一次以上。
13.如權(quán)利要求12所述的分析器，其中所述遷移系統(tǒng)被構(gòu)建和設(shè)置為在第一次和第二次時以足夠慢的速度遷移通過處理樣品的同一部分，從而使得在所述詢問空間第一次遷移通過處理樣品的所述部分時檢測到的受關(guān)注分子在存在時能在處理樣品的所述部分第一次被詢問空間詢問以后基本擴(kuò)散離開處理樣品的所述部分，并且還使得后續(xù)的受關(guān)注分子在存在時能在處理樣品的所述部分第二次被詢問空間詢問時基本擴(kuò)散進(jìn)入處理樣品的所述部分內(nèi)。
14.如權(quán)利要求12所述的分析器，其中所述遷移系統(tǒng)被構(gòu)建和設(shè)置為以基本環(huán)形模式遷移所述詢問空間，其中所述遷移系統(tǒng)能夠以100RPM～1000RPM的速度遷移所述詢問空間。
15.如權(quán)利要求12所述的分析器，其中所述遷移系統(tǒng)被構(gòu)建和設(shè)置為以下述方式遷移所述詢問空間：使得檢測點在經(jīng)過足夠的時間后返回處理樣品的所述部分，由此使在第一次通過時被檢測到的分子能擴(kuò)散離開處理樣品的所述部分而其它分子能擴(kuò)散進(jìn)入處理樣品的所述部分。
16.如權(quán)利要求1所述的分析器，其中所述分析器適于和構(gòu)造為依次檢測在第一處理樣品中特定類型的存在或不存在和檢測在第二處理樣品中所述特定類型的單分子存在或不存在，其中在第一處理樣品和第二處理樣品之間沒有夾帶。
17.如權(quán)利要求14所述的分析器，其中如下值被指定給所述背景光子水平：其作為多個時段中檢測到的平均背景信號來計算。
18.如權(quán)利要求14所述的分析器，其中所述背景光子水平包括處理樣品中存在的未標(biāo)記顆粒的內(nèi)在熒光、拉曼散射或電子噪聲。
19.如權(quán)利要求1所述的分析器，其中所述電磁輻射源發(fā)射1～15微焦的電磁輻射。
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