[發(fā)明專利]一種光子晶體光纖耦合器及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310482796.4 | 申請(qǐng)日: | 2013-10-15 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103499855A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-01-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊遠(yuǎn)洪;代文;楊明偉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京航空航天大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | G02B6/25 | 分類(lèi)號(hào): | G02B6/25;G02B6/255 |
| 代理公司: | 北京科迪生專利代理有限責(zé)任公司 11251 | 代理人: | 楊學(xué)明;顧煒 |
| 地址: | 100191*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 光子 晶體 光纖 耦合器 及其 制備 方法 | ||
1.一種光子晶體光纖耦合器,其特征在于:包括:一個(gè)Y分支光子晶體光纖(5)與單根光纖(6),或者兩個(gè)Y分支光子晶體光纖(5、5′),將兩根相同光子晶體光纖(1、1′)側(cè)邊拋磨掉一半并貼合拋磨面,形成Y分支結(jié)構(gòu)光子晶體光纖,Y分支光子晶體光纖(5)的頂點(diǎn)端面(3)與單根光子晶體光纖的端面相同,將Y分支光子晶體光纖(5)頂點(diǎn)與單根光纖(6)或另一個(gè)Y分支光子晶體光纖(5′)頂點(diǎn)熔接或?qū)樱纬晒庾泳w光纖耦合器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光子晶體光纖耦合器,其特征在于:所述的光子晶體光纖為實(shí)芯光子晶體光纖或空芯光子晶體光纖,均包括保偏和非保偏光子晶體光纖。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光子晶體光纖耦合器,其特征在于:將Y分支光子晶體光纖(5)頂點(diǎn)與單根光纖(6)連接可獲得1×2光子晶體光纖耦合器;將Y分支光子晶體光纖(5)與另一個(gè)Y分支光子晶體光纖(5′)頂點(diǎn)連接可獲得2×2光子晶體光纖耦合器。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光子晶體光纖耦合器,其特征在于:光束從Y分支光子晶體光纖(5)頂點(diǎn)輸入時(shí),光束在平坦段纖芯內(nèi)傳播與單根光纖相同,進(jìn)入過(guò)渡段纖芯時(shí)纖芯緩慢展寬,滿足場(chǎng)的連續(xù)性條件,不會(huì)激發(fā)起高階模,僅是基模的寬度隨著波導(dǎo)的變寬而展寬并按相應(yīng)分光比進(jìn)入兩個(gè)分支光纖,兩束光相位相同,光強(qiáng)比近似等于分支點(diǎn)的光纖纖芯面積比,理想情況下其插入損耗只有分支點(diǎn)處產(chǎn)生的散射損耗。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光子晶體光纖耦合器,其特征在于:兩根光子晶體光纖貼合后光纖分支張角小于2°,以減小分支散射損耗,研磨區(qū)過(guò)渡段的長(zhǎng)度l′決定光纖張角,二者關(guān)系近似為:
其中,α為光纖張角,d為纖芯直徑,D為包層直徑。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光子晶體光纖耦合器,其特征在于:若拋磨后的兩根光纖貼合后不做切割處理,則其本身就是一個(gè)2×2光子晶體光纖耦合器。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光子晶體光纖耦合器的制備方法,其特征在于:所述的Y分支光子晶體光纖(5)由兩根側(cè)面拋磨后的光子晶體光纖(1、1′)貼合形成,其制備過(guò)程為:
步驟(1)、研磨前對(duì)研磨方向進(jìn)行定位,使兩根光子晶體光纖的研磨方向相同,保偏光子晶體光纖的研磨方向選擇須不影響貼合后光纖的保偏結(jié)構(gòu);
步驟(2)、分別研磨光子晶體光纖,研磨深度為包層直徑的一半,可根據(jù)分光比要求改變研磨區(qū)過(guò)渡段的彎曲半徑,并對(duì)研磨面做拋光處理;
步驟(3)、采用光膠工藝將兩個(gè)光子晶體光纖的拋光面對(duì)準(zhǔn)、貼合,在平坦段切割光纖,使切斷處光纖具有與單根光子晶體光纖相同的端面結(jié)構(gòu),得到Y(jié)分支光子晶體光纖。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制備方法,其特征在于:在Y分支光子晶體光纖制備過(guò)程中,研磨、拋光處理光子晶體光纖時(shí),為避免堵塞空氣孔,對(duì)光纖端面空氣孔施加氣壓保持空氣孔清潔。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制備方法,其特征在于:在Y分支光子晶體光纖制備過(guò)程中,耦合器分光比可通過(guò)調(diào)節(jié)Y分支光子晶體光纖分光比來(lái)設(shè)置,Y分支光子晶體光纖的分光比可通過(guò)改變兩個(gè)光纖拋磨區(qū)過(guò)渡段長(zhǎng)度l′來(lái)設(shè)定,當(dāng)兩拋磨面的過(guò)渡段長(zhǎng)度相同時(shí)貼合后分光比為50:50;貼合兩光纖拋磨面時(shí),通過(guò)調(diào)節(jié)拋磨面間的軸向位移或錯(cuò)位可以調(diào)節(jié)輸出分光比,該過(guò)程通過(guò)在Y分支光纖頂點(diǎn)處打光同時(shí)在兩個(gè)分支的輸出端記錄光功率來(lái)監(jiān)測(cè)實(shí)現(xiàn)。
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