[發(fā)明專利]布線板及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310481708.9 | 申請日: | 2013-10-15 |
| 公開(公告)號: | CN103731982B | 公開(公告)日: | 2017-01-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 閑野義則;照井誠;國枝雅敏;苅谷隆 | 申請(專利權(quán))人: | 揖斐電株式會社 |
| 主分類號: | H05K1/11 | 分類號: | H05K1/11;H05K3/32;H05K3/46 |
| 代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11127 | 代理人: | 李輝,于英慧 |
| 地址: | 暫無信息 | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 布線 及其 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及布線板及其制造方法,詳細(xì)地說,涉及局部具有高密度布線的布線板及其制造方法。
背景技術(shù)
作為用于安裝IC芯片(半導(dǎo)體元件)的多層印刷布線板,公知有如下這樣的布線板:在具有通孔導(dǎo)體的樹脂性的核心基板上交替層疊了層間絕緣層和導(dǎo)體層,利用過孔導(dǎo)體將導(dǎo)體層之間連接。
隨著近年來IC芯片的細(xì)微化、高集成化,形成于封裝基板的最上層的墊數(shù)量增大。隨著該墊數(shù)量的增大,墊的間距微細(xì)化(40~50μm間距)不斷推進(jìn)。伴隨這樣的墊的間距微細(xì)化,封裝基板的布線間距也在快速地微細(xì)化(例如,參照專利文獻(xiàn)1)。
在該布線板中,在其內(nèi)部局部地形成有高密度的布線。具體地說,在布線板的層間絕緣層的內(nèi)部配設(shè)有電子部件,該電子部件在由硅、玻璃等耐熱性基材構(gòu)成且熱膨脹系數(shù)低的基板上,形成有這種高密度的布線層。并且,通過這種構(gòu)造來應(yīng)對上述的墊的間距微細(xì)化的傾向。
【專利文獻(xiàn)1】國際公開第2007/129545號
但是,在該布線板中,所安裝的全部半導(dǎo)體元件集中在上述電子部件的布線層。即,由于電源系統(tǒng)和信號系統(tǒng)的全部布線集中在電子部件的高密度的布線層,因而認(rèn)為電氣特性產(chǎn)生問題。
并且,在電子部件存在的區(qū)域中,形成有高密度的布線,在電子部件周邊的不存在電子部件的區(qū)域中,不存在導(dǎo)體而僅存在樹脂,因而認(rèn)為電子部件容易受到樹脂的熱膨脹和收縮的影響,并且構(gòu)成布線板的耐熱性基材發(fā)生裂紋。
而且,要求電子部件形成在層間絕緣層或阻焊層等的絕緣層時(shí)的用于連接電子部件與IC芯片的過孔的直徑也必然地小。
因此,在該絕緣層內(nèi)埋入電子部件的構(gòu)造中,需要將大小與40~50μm間距的布線相稱的小過孔形成在絕緣層內(nèi),使用光刻或者激光形成這樣的過孔從分辨率的關(guān)系來看是困難的。
而且,為了通過光刻形成過孔,需要使用顯影液去除圖案形成不需要的抗蝕劑,認(rèn)為由于顯影液而使布線間的絕緣可靠性受損。
再者,這樣的電子部件由于厚度薄為20μm左右,因而也存在由于激光而容易受損的情況。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述的情況而完成的,本發(fā)明的目的在于,提供具有高可靠性的布線板及其制造方法。
本發(fā)明的第1觀點(diǎn)的布線板,其特征在于,所述布線板具有:
第1絕緣層;
第1導(dǎo)體圖案,其形成在所述第1絕緣層上;
布線構(gòu)造體,其設(shè)置在所述第1絕緣層上,具有第2絕緣層和所述第2絕緣層上的第2導(dǎo)體圖案;以及
第3絕緣層,其設(shè)置在所述第1絕緣層上和所述第1導(dǎo)體圖案上,具有使所述布線構(gòu)造體的表面的至少一部分露出的第1開口部、和使所述第1導(dǎo)體圖案的至少一部分露出的第2開口部,
所述布線構(gòu)造體的最外層的第3導(dǎo)體圖案包含安裝半導(dǎo)體元件的安裝墊,
所述第1開口部使所述安裝墊的墊形成區(qū)域露出。
本發(fā)明的第2觀點(diǎn)的布線板的制造方法,其特征在于,所述制造方法具有以下步驟:
在第1絕緣層上形成第1導(dǎo)體圖案;
在所述第1絕緣層上設(shè)置具有第2絕緣層和所述第2絕緣層上的第2導(dǎo)體圖案的布線構(gòu)造體;
在所述第1絕緣層上、以覆蓋所述布線構(gòu)造體和所述第1導(dǎo)體圖案的方式設(shè)置第3絕緣層;
在所述第3絕緣層的內(nèi)部形成使所述布線構(gòu)造體的最外層的第3導(dǎo)體圖案的至少一部分露出的第1開口部;以及
在所述第3絕緣層的內(nèi)部形成使所述第1導(dǎo)體圖案的至少一部分露出的第2開口部,
所述第3導(dǎo)體圖案包含安裝半導(dǎo)體元件的墊形成區(qū)域,
所述第1開口部以所述墊形成區(qū)域露出的方式形成。
根據(jù)本發(fā)明,可提供具有高可靠性的布線板。
附圖說明
圖1A是示出使用了本發(fā)明第1實(shí)施方式的布線板的封裝基板的剖視圖(下側(cè)的圖示出作為上側(cè)的圖的主要部分的區(qū)域A的放大剖視圖)。
圖1B是詳細(xì)示出使用了第1實(shí)施方式的布線板的封裝基板的剖視圖。
圖2是從Z2方向觀察圖1A時(shí)的平面圖。
圖3是示出第1實(shí)施方式的布線板的主要部分的圖,是放大示出圖1A的一部分的剖視圖(下側(cè)的圖示出作為上側(cè)的圖的主要部分的區(qū)域B的放大剖視圖)。
圖4是示出第1實(shí)施方式的布線構(gòu)造體的制造過程的流程圖。
圖5A是說明圖4所示的布線構(gòu)造體的制造方法的工序圖。
圖5B是說明圖4所示的布線構(gòu)造體的制造方法的工序圖。
圖5C是說明圖4所示的布線構(gòu)造體的制造方法的工序圖。
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