[發(fā)明專利]坩堝加熱設(shè)備及方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310476481.9 | 申請(qǐng)日: | 2013-10-12 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103557704A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-02-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張?chǎng)蔚?/a>;李冠政 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳市華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | F27B14/20 | 分類號(hào): | F27B14/20;G05D23/30 |
| 代理公司: | 北京聿宏知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11372 | 代理人: | 吳大建;劉華聯(lián) |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 坩堝 加熱 設(shè)備 方法 | ||
1.一種坩堝加熱設(shè)備,包括坩堝、圍繞在所述坩堝外部的金屬筒、纏繞在所述金屬筒和所述坩堝之間的電熱絲、用于測(cè)量坩堝內(nèi)材料液位位置的測(cè)量單元以及控制器,其特征在于,所述電熱絲包括沿縱向方向設(shè)置的至少兩個(gè)分段,所述控制器分別控制各個(gè)分段的發(fā)熱功率,從而將所述坩堝分為至少兩個(gè)相應(yīng)的溫控區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱設(shè)備,其特征在于,所述電熱絲的線圈密度在縱向方向上平均分布。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱設(shè)備,其特征在于,在所述金屬筒的第一端部處布置有金屬覆蓋件,在所述金屬筒的第二端部處布置有金屬層或絕熱層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱設(shè)備,其特征在于,所述坩堝為圓桶狀,且所述坩堝的直徑小于10cm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱設(shè)備,其特征在于,所述測(cè)量單元包括位于所述坩堝下部的重力傳感器或西格納斯系統(tǒng)。
6.一種坩堝加熱方法,包括如下步驟:
步驟1:設(shè)置根據(jù)權(quán)利要求1到5中任一項(xiàng)所述的坩堝加熱設(shè)備;
步驟2:將待蒸發(fā)的材料放入坩堝中;
步驟3:將所述電熱絲的不同分段分別設(shè)置成初始的發(fā)熱功率;
步驟4:蒸發(fā)所述材料并通過(guò)所述測(cè)量單元監(jiān)控所述坩堝中材料的液位位置;
步驟5:根據(jù)所述材料的液位位置調(diào)節(jié)所述電熱絲的不同分段的發(fā)熱功率,直至材料蒸發(fā)至所需的程度。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,對(duì)所述電熱絲設(shè)置十個(gè)以上的分段,每個(gè)分段所對(duì)應(yīng)的單個(gè)溫控區(qū)域內(nèi)的溫差控制在2℃以內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,通過(guò)西格納斯系統(tǒng)對(duì)蒸發(fā)行為進(jìn)行監(jiān)控,獲取液面下降10%所需的時(shí)間,在所述時(shí)間內(nèi),使所有電熱絲的分段的發(fā)熱功率變化以適應(yīng)液位下降。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,根據(jù)當(dāng)前蒸發(fā)速率對(duì)部分電熱絲的分段的發(fā)熱功率進(jìn)行調(diào)整以保證蒸發(fā)速率的穩(wěn)定性。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,在步驟5中進(jìn)行如下調(diào)節(jié),以下百分比均為材料量與坩堝容積的體積百分比:
當(dāng)材料剩余量位于90%到100%的范圍之間時(shí),坩堝70%點(diǎn)位以下升溫,坩堝底部升溫至材料熔點(diǎn),70%點(diǎn)位處升溫至材料起蒸點(diǎn),位于坩堝底部和70%點(diǎn)位處之間的位置的溫度由下至上依次升高,70%到100%的范圍之間的點(diǎn)位的溫控區(qū)域保持自下至上溫度依次升高的狀態(tài)且溫差不超過(guò)15℃;
當(dāng)材料剩余量位于X%到(X+10)%的范圍之間時(shí),坩堝(X-20)%點(diǎn)位以下升溫,坩堝底部升溫至材料熔點(diǎn),(X-20)%點(diǎn)位處升溫至材料起蒸點(diǎn),位于坩堝底部和(X-20)%點(diǎn)位處之間的位置的溫度由下至上依次升高,(X-20)%到(X+10)%的范圍之間的點(diǎn)位的溫控區(qū)域保持自下至上溫度依次升高的狀態(tài)且溫差不超過(guò)15℃,(X+10)%點(diǎn)位以上的位置溫度與(X+10)%點(diǎn)位處溫度一致,其中X的取值分別為30、40、50、60、70和80;
當(dāng)材料剩余量位于10%到30%的范圍之間時(shí),坩堝底部升溫至材料起蒸點(diǎn),位于坩堝底部和30%點(diǎn)位處之間的溫控區(qū)域保持自下至上溫度依次升高的狀態(tài)且溫差不超過(guò)15℃,30%點(diǎn)位以上的位置溫度與30%點(diǎn)位處溫度一致。
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