[發(fā)明專利]一種大掩模版整形裝置和方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310473556.8
• 申請日: 2013-10-11
• 公開（公告）號: CN104570592B
• 公開（公告）日: 2019-04-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 江旭初;王鑫鑫;魏龍飛;梁曉葉
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F1/68
• 分類號: G03F1/68;G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種大掩模版整形裝置，其特征在于，包括：大掩模版、承版臺、若干組垂向提升機構(gòu)和若干組測量裝置；其中，

所述大掩模版固定在所述承版臺上；

所述測量裝置將測量的大掩模版的位置信號反饋于對應(yīng)的所述垂向提升機構(gòu)；

所述垂向提升機構(gòu)依據(jù)位置反饋信號調(diào)節(jié)所述大掩模版的垂向位置；

所述垂向提升機構(gòu)包括：驅(qū)動裝置、軸桿、柔性裝置、氣浮軸承和軸套；其中，

所述驅(qū)動裝置包括：驅(qū)動裝置定子和驅(qū)動裝置動子；

所述驅(qū)動裝置定子和所述軸桿分別固定在一支座上；

所述驅(qū)動裝置動子與所述軸套固定連接；

所述軸桿和所述軸套之間形成導(dǎo)向裝置；

所述柔性裝置一端與所述軸套連接，另一端與所述氣浮軸承連接；

所述氣浮軸承和所述大掩模版之間形成有一具有雙向剛度的氣膜。

2.如權(quán)利要求1所述的大掩模版整形裝置，其特征在于，所述垂向提升機構(gòu)和所述測量裝置設(shè)置于所述大掩模版的第一側(cè)，且一組垂向提升機構(gòu)各對應(yīng)一組測量裝置，所述測量裝置與對應(yīng)的垂向提升機構(gòu)相鄰設(shè)置。

3.如權(quán)利要求1所述的大掩模版整形裝置，其特征在于，所述垂向提升機構(gòu)和所述測量裝置設(shè)置于所述大掩模版的第一側(cè)，且在非掃描方向上位置相同的若干組垂向提升機構(gòu)共用同一組測量裝置。

4.如權(quán)利要求1所述的大掩模版整形裝置，其特征在于，

所述垂向提升機構(gòu)設(shè)置于所述大掩模版的第一側(cè)；

所述測量裝置設(shè)置于所述大掩模版的第二側(cè)；

在非掃描方向上位置相同的若干組垂向提升機構(gòu)共用同一組測量裝置。

5.如權(quán)利要求1-4中任一所述的大掩模版整形裝置，其特征在于，若干組所述垂向提升機構(gòu)在掃描方向和非掃描方向呈間隔設(shè)置。

6.如權(quán)利要求1-4中任一所述的大掩模版整形裝置，其特征在于，所述垂向提升機構(gòu)和對應(yīng)的所述測量裝置在非掃描方向上的位置相同。

7.如權(quán)利要求1所述的大掩模版整形裝置，其特征在于，所述測量裝置采用非接觸式位置傳感器，包括光電式傳感器、氣壓式傳感器或電容式傳感器。

8.如權(quán)利要求1所述的大掩模版整形裝置，其特征在于，所述導(dǎo)向裝置為氣浮導(dǎo)向、機械導(dǎo)軌導(dǎo)向或磁浮軸承導(dǎo)向。

9.如權(quán)利要求1所述的大掩模版整形裝置，其特征在于，所述驅(qū)動裝置為音圈電機或壓電式陶瓷電機。

10.如權(quán)利要求1所述的大掩模版整形裝置，其特征在于，所述柔性裝置為柔性鉸鏈，所述柔性鉸鏈包括：連接端、X向柔性壁、支撐端、Y向柔性壁和固定端；其中，

所述連接端與所述軸套固定連接；

所述支撐端一端與所述X向柔性壁連接，另一端與所述Y向柔性壁連接；

所述固定端與所述氣浮軸承連接。

11.如權(quán)利要求10所述的大掩模版整形裝置，其特征在于，所述X向柔性壁和Y向柔性壁的厚度范圍為0.1mm-0.5mm。

12.如權(quán)利要求10所述的大掩模版整形裝置，其特征在于，所述柔性鉸鏈具有Rx、Ry兩個方向的柔性，且所述柔性鉸鏈的垂向剛度大于Rx、Ry向的剛度。

13.如權(quán)利要求1所述的大掩模版整形裝置，其特征在于，所述柔性裝置為球鉸。