[發明專利]投影曝光裝置

有效

• 申請號: 201310473543.0
• 申請日: 2013-10-11
• 公開（公告）號: CN104570610B
• 公開（公告）日: 2017-02-15
• 發明（設計）人: 劉雅麗
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B17/08
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙)31237
• 代理人: 屈蘅,李時云

1.一種投影曝光裝置，用于將掩模的圖像聚焦成像在硅片上，所述裝置從掩模開始沿光軸依次包括：

具有放大倍率β₁的第一成像光學系統，用于對掩模的圖像成中間像；

具有放大倍率β₂的第二成像光學系統，用于將中間像放大后成像在硅片上；

所述投影曝光裝置的放大倍率為β=β₁×β₂。

2.如權利要求1所述的投影曝光裝置，其特征在于，放大倍率β1約等于1，β2大于等于1.5。

3.如權利要求2所述的投影曝光裝置，其特征在于，放大倍率β1等于1x，β2為-1.5x或-2x。

4.如權利要求1所述的投影曝光裝置，其特征在于，所述第一成像光學系統為折反射結構，包括至少一反射棱鏡、一凹面反射鏡和折反射透鏡組，所述折反射透鏡組配置在反射棱鏡與凹面反射鏡之間。

5.如權利要求4所述的投影曝光裝置，其特征在于，所述折反射透鏡組包括至少六片透鏡。

6.如權利要求4或5所述的投影曝光裝置，其特征在于，所述第一成像光學系統還包括用于調節所述凹面反射鏡的微動機構。

7.如權利要求4所述的投影曝光裝置，其特征在于，所述第二成像光學系統沿著光軸方向依次包括：分別具有正光焦度的第一透鏡組、第二透鏡組、第三透鏡組和第四透鏡組；

其中，所述各透鏡組滿足以下關系：

15<|f_G22/f_G21|<17

0.8<|f_G23/f_G24|<1.2

0.05<|f_G23/f_G22|<0.12

上述各式中：f_G21為所述第一鏡頭組的焦距；f_G22為所述第二透鏡組的焦距；f_G23為所述第三透鏡組的焦距；f_G24為所述第四透鏡組的焦距。

8.如權利要求7所述的投影曝光裝置，其特征在于，所述第一透鏡組包括至少四片透鏡，并滿足公式：1.03<|f_{el_max}/f_G21|<1.95，其中，f_{el_max}為第一透鏡組內光焦度最大的透鏡的焦距。

9.如權利要求7所述的投影曝光裝置，其特征在于，所述第二透鏡組包括至少六片透鏡，其中至少包含兩對相鄰的正負透鏡組合。

10.如權利要求9所述的投影曝光裝置，其特征在于，所述正負透鏡組合中，正負透鏡的阿貝數比滿足：

1.23<V_G22正/V_G22負<1.85或1.59<V_G22正/V_G22負<2.65

其中：V_G22正為所述第二透鏡組的正負透鏡組合中正透鏡的阿貝數；V_G22負為與所述正透鏡相鄰的負透鏡的阿貝數。

11.如權利要求7所述的投影曝光裝置，其特征在于，所述第三透鏡組包含第一子透鏡組，所述第一子透鏡組的光焦度為正，并包含第三透鏡組中至少兩個位置相鄰且光焦度為正的透鏡。

12.如權利要求11所述的投影曝光裝置，其特征在于，所述第一子透鏡組與第三透鏡組之間滿足以下關系式：

0.34<|f_G23-1n/f_G23|<0.87

其中，f_G23-1n為所述第一子透鏡組的焦距。

13.如權利要求7所述的投影曝光裝置，其特征在于，所述第四透鏡組包含第二子透鏡組，所述第二子透鏡組的光焦度為正，并包含所述第四透鏡組中至少三個位置相鄰且光焦度為正的透鏡。