[發明專利]抗蝕劑剝離液的再生方法以及再生裝置有效
| 申請號: | 201310473524.8 | 申請日: | 2013-10-11 |
| 公開(公告)號: | CN103721427A | 公開(公告)日: | 2014-04-16 |
| 發明(設計)人: | 大野順也;川瀬龍洋;井上恭;井城大世;小林繁;増田義登 | 申請(專利權)人: | 日本瑞環化工有限公司;松下環境工程株式會社 |
| 主分類號: | B01D1/00 | 分類號: | B01D1/00;B01D1/22;B01D1/30;G03F7/42 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 抗蝕劑 剝離 再生 方法 以及 裝置 | ||
1.一種抗蝕劑剝離液的再生方法,其特征在于,其具有下述工序:
低沸點分離工序,從抗蝕劑的剝離中使用的至少含有溶劑、含水的低沸點成分和抗蝕劑成分的使用完畢的抗蝕劑剝離液分離所述含水的低沸點成分的一部分并作為廢液A氣化分離并取出;
高沸點分離工序,將所述低沸點分離工序的分離殘留液氣化分離,將所述含水的低沸點成分的剩余部分和所述溶劑作為分離液取出,將含所述抗蝕劑成分的含抗蝕劑的殘留液作為分離殘留液;
殘渣濃縮工序,將所述含抗蝕劑的殘留液在殘渣濃縮器內進一步濃縮,分離所述溶劑和所述含水的低沸點成分并返回至所述高沸點分離工序;
精制工序,從所述高沸點分離工序的分離液氣化分離所述水的剩余部分作為廢液B,將分離殘留液作為抗蝕劑剝離再生液取出;和
洗滌工序,使所述低沸點分離工序的分離殘留液在所述殘渣濃縮器內均勻地流下。
2.根據權利要求1所述的抗蝕劑剝離液的再生方法,其特征在于,在所述洗滌工序中,將所述殘渣濃縮器內的溫度設為所述低沸點分離工序的分離殘留液的至少溶劑的沸點以下的溫度。
3.根據權利要求1所述的抗蝕劑剝離液的再生方法,其特征在于,所述低沸點分離工序的分離殘留液在從所述低沸點分離工序移送至所述高沸點分離工序時,在保溫狀態下被移送。
4.根據權利要求1所述的抗蝕劑剝離液的再生方法,其特征在于,所述高沸點分離工序的分離液在從所述高沸點分離工序移送至所述精制工序時,在減壓并且保溫狀態下被移送。
5.根據權利要求1所述的抗蝕劑剝離液的再生方法,其特征在于,所述洗滌工序在所述殘渣濃縮工序停止前進行。
6.根據權利要求1~5中的任一項權利要求所述的抗蝕劑剝離液的再生方法,其特征在于,所述洗滌工序在所述殘渣濃縮工序啟動前進行。
7.一種抗蝕劑剝離液的再生裝置,其特征在于,其具有:
低沸點分離器,從抗蝕劑的剝離中使用的至少含有溶劑、含水的低沸點成分和抗蝕劑成分的使用完畢的抗蝕劑剝離液分離所述含水的低沸點成分的一部分并作為廢液A氣化分離并取出;
高沸點分離器,將所述低沸點分離器的分離殘留液氣化分離,將所述含水的低沸點成分的剩余部分和所述溶劑作為分離液取出,將含所述抗蝕劑成分的含抗蝕劑的殘留液作為分離殘留液;
殘渣濃縮器,將所述含抗蝕劑的殘留液進一步濃縮,分離所述溶劑和所述含水的低沸點成分并返回至所述高沸點分離器;和
精制器,從所述高沸點分離器的分離液氣化分離所述含水的低沸點成分的剩余部分作為廢液B,將分離殘留液作為抗蝕劑剝離再生液取出;
洗滌單元,使所述低沸點分離器的分離殘留液在所述殘渣濃縮器內均勻地流下。
8.根據權利要求7所述的抗蝕劑剝離液的再生裝置,其特征在于,其具有加熱單元,所述加熱單元使得所述洗滌單元動作時所述殘渣濃縮器內的溫度為所述低沸點分離器的分離殘留液的至少溶劑的沸點以下的溫度。
9.根據權利要求7所述的抗蝕劑剝離液的再生裝置,其特征在于,在將所述低沸點分離器的分離殘留液從所述低沸點分離器移送至所述高沸點分離器的配管上配設有對所述配管進行保溫的配管保溫單元。
10.根據權利要求7所述的抗蝕劑剝離液的再生裝置,其特征在于,在將所述高沸點分離器的分離液從所述高沸點分離器移送至所述精制器的配管上配設有對所述配管內進行減壓的減壓單元、和對所述配管進行保溫的配管保溫單元。
11.根據權利要求7所述的抗蝕劑剝離液的再生裝置,其特征在于,所述洗滌單元在所述殘渣濃縮器停止前動作。
12.根據權利要求7~11中的任一項權利要求所述的抗蝕劑剝離液的再生裝置,其特征在于,所述洗滌單元在所述殘渣濃縮器啟動前動作。
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