[發明專利]陣列基板及其制作方法、顯示裝置有效
| 申請號: | 201310472914.3 | 申請日: | 2013-10-11 |
| 公開(公告)號: | CN103489879A | 公開(公告)日: | 2014-01-01 |
| 發明(設計)人: | 于海峰;黃海琴;封賓 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/12 | 分類號: | H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人: | 李相雨 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陣列 及其 制作方法 顯示裝置 | ||
1.一種陣列基板制作方法,其特征在于,包括以下步驟:
在基板上形成包括位于GOA區對應信號線的區域的第一信號線電極的圖形;
在所述第一信號線電極圖形之上形成包括第二信號線電極的圖形,使所述第二信號線電極直接接觸所述第一信號線電極以形成信號線。
2.如權利要求1所述的陣列基板制作方法,其特征在于,所述在基板上形成包括位于GOA區對應信號線的區域的第一信號線電極的圖形具體包括:
在所述基板上形成導電薄膜,通過構圖工藝在GOA區對應信號線的區域形成所述第一信號線電極的圖形。
3.如權利要求1所述的陣列基板制作方法,其特征在于,所述在基板上形成包括位于GOA區對應信號線的區域的第一信號線電極的圖形具體包括:
在所述基板上形成透明導電薄膜,通過構圖工藝在所述基板對應的陣列基板的顯示區域形成公共電極或像素電極的圖形,同時在GOA區對應信號線的區域形成所述第一信號線電極的圖形。
4.如權利要求1~3中任一項所述的陣列基板制作方法,其特征在于,所述在所述第一信號線電極圖形之上形成包括第二信號線電極的圖形具體包括:
在形成包括第一信號線電極的圖形的基板上形成金屬薄膜,通過構圖工藝在所述第一信號線電極圖形之上形成包括第二信號線電極的圖形。
5.如權利要求1~3中任一項所述的陣列基板制作方法,其特征在于,所述在所述第一信號線電極圖形之上形成包括第二信號線電極的圖形具體包括:
在形成包括第一信號線電極的圖形的基板上形成柵金屬薄膜,通過構圖工藝形成包括柵線和柵極的圖形,同時在所述第一信號線電極圖形之上形成包括第二信號線電極的圖形。
6.如權利要求1~3中任一項所述的陣列基板制作方法,其特征在于,所述在所述第一信號線電極圖形之上形成包括第二信號線電極的圖形具體包括:
在形成包括第一信號線電極的圖形的基板上形成源漏金屬薄膜,通過構圖工藝形成包括源極、漏極和數據線的圖形,同時在所述第一信號線電極圖形之上形成包括第二信號線電極的圖形。
7.一種陣列基板,包括位于GOA區的信號線,其特征在于,所述信號線包括:位于基板上的第一信號線電極及位于所述第一信號線電極之上的第二信號線電極,第一信號線電極和第二信號線電極直接接觸,共同形成信號線。
8.如權利要求7所述的陣列基板,其特征在于,所述第一信號線電極與所述陣列基板上的公共電極或像素電極為同種電極材料,且同時形成。
9.如權利要求7所述的陣列基板,其特征在于,所述第二信號線電極為金屬電極。
10.如權利要求7所述的陣列基板,其特征在于,所述第二信號線電極與所述陣列基板上的柵線為同種金屬材料,且同時形成。
11.如權利要求7所述的陣列基板,其特征在于,所述第二信號線電極與所述陣列基板上的數據線為同種金屬材料,且同時形成。
12.一種顯示裝置,包括如權利要求7~11中任一項所述的陣列基板。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





