[發(fā)明專利]沉積設(shè)備、有機發(fā)光顯示設(shè)備及其制造方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310472801.3
• 申請日: 2013-10-11
• 公開（公告）號: CN104073761A
• 公開（公告）日: 2014-10-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 崔云鉉;金京漢;崔明煥;吳京原
• 申請（專利權(quán)）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C16/04;H01L51/50;H01L51/56
• 代理公司: 北京銘碩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286
• 代理人: 韓芳;張川緒

1.一種用于在基板上沉積沉積材料的沉積設(shè)備，所述沉積設(shè)備包括：

沉積源，面對基板并被構(gòu)造成排出沉積材料；

圖案化縫隙片，面對基板并包括被構(gòu)造成以期望的圖案沉積沉積材料的圖案化縫隙；

框架，接合到圖案化縫隙片；以及

臺階，結(jié)合到框架，以支撐框架，

其中，分離區(qū)域形成在框架和臺階之間。

2.如權(quán)利要求1所述的沉積設(shè)備，其中，分離區(qū)域在框架和臺階之間形成為鄰近于框架和臺階的結(jié)合區(qū)域。

3.如權(quán)利要求1所述的沉積設(shè)備，其中，框架和臺階通過多個結(jié)合構(gòu)件彼此結(jié)合，分離區(qū)域是在框架和臺階之間通過所述多個結(jié)合構(gòu)件形成的空間。

4.如權(quán)利要求3所述的沉積設(shè)備，其中，每個結(jié)合構(gòu)件形成為球形。

5.如權(quán)利要求3所述的沉積設(shè)備，其中，每個結(jié)合構(gòu)件為焊球。

6.如權(quán)利要求1所述的沉積設(shè)備，其中，分離區(qū)域在框架的鄰近于結(jié)合到臺階的表面的一部分的表面中形成為凹槽。

7.如權(quán)利要求1所述的沉積設(shè)備，其中，分離區(qū)域在臺階的鄰近于結(jié)合到框架的表面的一部分的表面中形成為凹槽。

8.如權(quán)利要求1所述的沉積設(shè)備，其中，臺階在被接合到框架的狀態(tài)下操作，使圖案化縫隙片相對于基板對準。

9.如權(quán)利要求1所述的沉積設(shè)備，其中，臺階包括：

第一臺階，被構(gòu)造成使圖案化縫隙片沿著第一方向和與第一方向交叉的第二方向移動；以及

第二臺階，位于第一臺階上并結(jié)合到框架，以使圖案化縫隙片沿著與第一方向和第二方向垂直的第三方向移動。

10.如權(quán)利要求1所述的沉積設(shè)備，其中，一個或多個雜質(zhì)設(shè)置在分離區(qū)域中。

11.如權(quán)利要求1所述的沉積設(shè)備，所述沉積設(shè)備還包括：屏蔽構(gòu)件，設(shè)置在沉積源和圖案化縫隙片之間，其中，屏蔽構(gòu)件形成為阻擋基板的至少一部分，并隨基板移動。

12.如權(quán)利要求1所述的沉積設(shè)備，所述沉積設(shè)備還包括：沉積源噴嘴單元，設(shè)置在沉積源的側(cè)面，并包括多個沉積源噴嘴。

13.如權(quán)利要求1所述的沉積設(shè)備，其中，圖案化縫隙片沿著至少一個方向比基板小。

14.如權(quán)利要求12所述的沉積設(shè)備，其中，沉積源噴嘴沿著第一方向布置在沉積源噴嘴單元中，圖案化縫隙片包括沿著第一方向布置的多個圖案化縫隙，沉積設(shè)備還包括阻擋板組件，所述阻擋板組件包括在沉積源噴嘴單元和圖案化縫隙片之間沿著第一方向布置的多個阻擋板，從而將沉積源噴嘴單元和圖案化縫隙片之間的空間劃分成多個沉積空間。

15.如權(quán)利要求14所述的沉積設(shè)備，其中，所述多個阻擋板中的每個沿著基本垂直于第一方向的第二方向延伸。

16.如權(quán)利要求14所述的沉積設(shè)備，其中，阻擋板組件包括具有多個第一阻擋板的第一阻擋板組件和具有多個第二阻擋板的第二阻擋板組件。

17.如權(quán)利要求16所述的沉積設(shè)備，其中，所述多個第一阻擋板中的每個和所述多個第二阻擋板中的每個沿著基本垂直于第一方向的第二方向形成，從而將沉積源噴嘴單元和圖案化縫隙片之間的空間劃分成所述多個沉積空間。

18.如權(quán)利要求12所述的沉積設(shè)備，其中，沉積源噴嘴單元包括沿著第一方向布置的多個沉積源噴嘴，圖案化縫隙片包括沿著垂直于第一方向的第二方向布置的多個圖案化縫隙。

19.如權(quán)利要求1所述的沉積設(shè)備，所述沉積設(shè)備還包括：

輸送器單元，包括其上固定有基板的傳送單元，傳送單元被構(gòu)造為當基板固定到傳送單元上時移動，輸送器單元包括：第一輸送器單元，沿著第一方向輸送傳送單元；第二輸送器單元，在完成沉積工藝之后將從傳送單元去除基板的傳送單元輸送到第一方向的相反方向；

加載單元，被構(gòu)造成將基板固定在傳送單元上；以及

卸載單元，被構(gòu)造成將已經(jīng)對其執(zhí)行完沉積工藝的基板與傳送單元分離，

其中，傳送單元被構(gòu)造為在第一輸送器單元和第二輸送器單元之間循環(huán)，固定在傳送單元上的基板在傳送單元被第一輸送器單元輸送的同時與圖案化縫隙片分離。