[發(fā)明專利]一種具有光學增透功能的中空納米錐陣列膜的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310472428.1 | 申請日: | 2013-10-11 |
| 公開(公告)號: | CN103499847A | 公開(公告)日: | 2014-01-08 |
| 發(fā)明(設計)人: | 張剛;艾斌;于也 | 申請(專利權)人: | 吉林大學 |
| 主分類號: | G02B1/11 | 分類號: | G02B1/11;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 長春吉大專利代理有限責任公司 22201 | 代理人: | 張景林;王恩遠 |
| 地址: | 130012 吉*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 具有 光學 功能 中空 納米 陣列 制備 方法 | ||
1.一種中空納米錐陣列膜的制備方法,其步驟如下:
1)以親水處理過的玻璃片為基底,在1000~3000rpm的轉(zhuǎn)速下將正向光刻膠原液旋涂到玻璃基底上,然后將基底在80~120℃條件下放置0.5~1小時進行固化,從而在基底上得到厚1~2μm的正向光刻膠薄膜;
2)在1~5mL、濃度為1~20wt%的聚苯乙烯微球的去離子水分散液中加入1~3mL的去離子水,在4000~10000rpm轉(zhuǎn)速下離心3~5分鐘,在離心后得到的固態(tài)物中再加入1~3mL去離子水并再次進行離心,重復加入去離子水和離心過程4~7次;在最后離心得到的固態(tài)物中加入1~5mL體積比為1:1的乙醇和去離子水的混合液,在4000~10000rpm轉(zhuǎn)速下離心5~10分鐘,重復加入混合液和離心過程4~20次,在最后離心得到的固態(tài)物中再加入1~5mL體積比為1:1的乙醇和去離子水的混合液,得到疏水聚苯乙烯微球的乙醇和去離子水分散液;用一次性注射器吸取0.1~0.5mL疏水聚苯乙烯微球的乙醇和去離子水分散液,滴加到盛有去離子水的容器中,疏水聚苯乙烯微球就會在氣液界面排列為單層,再加入50~200μL、濃度為1~10wt%的十二烷基磺酸鈉表面活性劑使聚苯乙烯微球彼此緊密排列;將旋涂有光刻膠薄膜的基底從單層聚苯乙烯微球底部將緊密排列的疏水聚苯乙烯微球托起,放于傾斜面上自然干燥就在基底上得到二維有序的單層聚苯乙烯微球陣列;
3)將步驟2)制得的基底置在氣壓為5~10mTorr、溫度為10~20℃、氧氣流速為10~50sccm、刻蝕功率為200~300W的條件下刻蝕100~500秒;在這個過程中,微球與其下部的光刻膠同時被刻蝕,微球逐漸變小直至完全消失,由于微球的掩膜作用,光刻膠薄膜被刻蝕成納米錐陣列結構;然后將刻蝕過的基底放置在真空蒸發(fā)鍍膜設備的樣品臺上,在入射角為0°、真空度為5×10-4~1×10-3Pa的條件下進行熱蒸發(fā)沉積金屬,沉積速度為沉積厚度為100~120nm;
4)將熱蒸發(fā)沉積金屬后的基底放入無水乙醇中浸泡2~3小時,金屬膜與基底之間留有的未被刻蝕掉的光刻膠連同被銀覆蓋的納米錐陣列結構的光刻膠一并被乙醇溶解,從而得到中空納米錐陣列的金屬銀薄膜。
2.如權利要求1所述的一種中空納米錐陣列膜的制備方法,其特征在于:基底為玻璃片或石英片。
3.如權利要求1所述的一種中空納米錐陣列膜的制備方法,其特征在于:聚苯乙烯微粒直徑的尺寸為0.5~3μm。
4.如權利要求1所述的一種中空納米錐陣列膜的制備方法,其特征在于:金屬為銀。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于吉林大學,未經(jīng)吉林大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310472428.1/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





