[發(fā)明專利]一種超疏液表面的制備方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310471760.6
• 申請(qǐng)日: 2013-10-11
• 公開（公告）號(hào): CN103569950A
• 公開（公告）日: 2014-02-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳天準(zhǔn);袁麗芳;王磊;王智偉;項(xiàng)榮;湯子康
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院深圳先進(jìn)技術(shù)研究院
• 主分類號(hào): B81C1/00
• 分類號(hào): B81C1/00
• 代理公司: 深圳鼎合誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44281
• 代理人: 任葵

1.一種超疏液表面的制備方法，其特征在于，包括：

在基板上涂覆具有黏附性的高分子涂層；

在所述高分子涂層上刻蝕獲得T型微納米結(jié)構(gòu)；

使用加熱可固化材料轉(zhuǎn)印獲得T型微納米結(jié)構(gòu)；

對(duì)所述轉(zhuǎn)印獲得的T型微納米結(jié)構(gòu)進(jìn)行疏水處理，使所述轉(zhuǎn)印獲得的T型微納米結(jié)構(gòu)的表面形成疏水薄膜。

2.如權(quán)利要求1所述的超疏液表面的制備方法，其特征在于，所述基板包括硅基板。

3.如權(quán)利要求1所述的超疏液表面的制備方法，其特征在于，所述在基板上涂覆具有黏附性的高分子涂層，包括：

使用旋涂法在所述基板上涂覆具有黏附性的第一高分子涂層；

使用旋涂法在所述第一高分子涂層上涂覆具有黏附性的第二高分子涂層。

4.如權(quán)利要求3所述的超疏液表面的制備方法，其特征在于，所述第一高分子涂層的刻蝕速率大于所述第二高分子涂層的刻蝕速率。

5.如權(quán)利要求4所述的超疏液表面的制備方法，其特征在于，所述第一高分子涂層的刻蝕速率與所述第二高分子涂層的刻蝕速率和比值大于等于10。

6.如權(quán)利要求5所述的超疏液表面的制備方法，其特征在于，所述第一高分子涂層包括含有PMMA的共聚物，所述第二高分子涂層包括SU-8光刻膠。

7.如權(quán)利要求3所述的超疏液表面的制備方法，其特征在于，所述在所述高分子涂層上刻蝕獲得T型微納米結(jié)構(gòu)，包括：

使用所述第二高分子涂層的顯影劑來(lái)顯影所述第二高分子涂層，獲得特定的微米或納米圖形；

使用特定溶劑通過(guò)顯影后的所述第二高分子涂層，刻蝕所述第一高分子涂層；

在所述第二高分子涂層和所述第一高分子涂層上形成T型結(jié)構(gòu)。

8.如權(quán)利要求7所述的超疏液表面的制備方法，其特征在于，所述顯影劑包括SU-8顯影劑，所述特定溶劑包括AR300-26顯影劑或可溶解PMMA有機(jī)溶劑。

9.如權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的超疏液表面的制備方法，其特征在于，所述使用加熱可固化材料轉(zhuǎn)印獲得T型微納米結(jié)構(gòu)，包括：

將液相的加熱可固化材料灌注充滿所述高分子涂層的倒T型微納結(jié)構(gòu)；

固化所述加熱可固化材料；

將所述加熱可固化材料從所述基板上脫模，獲得與所述倒T型微納米結(jié)構(gòu)互補(bǔ)的所述T型微納米結(jié)構(gòu)。

10.如權(quán)利要求8所述的超疏液表面的制備方法，其特征在于，所述加熱可固化材料包括聚二甲基硅氧烷、三元乙丙橡膠、丁晴橡膠、順丁膠或氯丁膠。