[發(fā)明專利]TFT陣列基板及其制造方法、顯示面板和顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310470077.0 | 申請日: | 2013-10-10 |
| 公開(公告)號: | CN103969865B | 公開(公告)日: | 2017-10-27 |
| 發(fā)明(設計)人: | 王聽海;曹兆鏗 | 申請(專利權)人: | 上海中航光電子有限公司;天馬微電子股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1333 | 分類號: | G02F1/1333;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司11332 | 代理人: | 孟金喆 |
| 地址: | 201108 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | tft 陣列 及其 制造 方法 顯示 面板 顯示裝置 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及顯示技術領域,尤其涉及一種TFT陣列基板及其制造方法、顯示面板和顯示裝置。
背景技術
目前,平板顯示器,如液晶顯示器(Liquid Crystal Display,LCD)和有機發(fā)光顯示器(Organic Light Emit Display,OLED)等,由于其具有體積小、重量輕、厚度薄、功耗低、無輻射等特點,在當前的平板顯示器市場中占據(jù)了主導地位。在成像過程中,平板顯示器中每一像素點都由集成在陣列基板中的薄膜晶體管(Thin Film Transistor,TFT)來驅(qū)動,再配合外圍驅(qū)動電路,實現(xiàn)圖像顯示,TFT是控制發(fā)光的開關,是實現(xiàn)液晶顯示器LCD和有機發(fā)光顯示器OLED大尺寸化的關鍵,直接關系到高性能平板顯示器的發(fā)展方向。隨著對產(chǎn)品的分辨率和顯示效果的要求越來越高,在TFT基板結構中,如何減少公共電極與數(shù)據(jù)線之間的耦合電容,從而達到減少閃爍(Flicker)不均的效果,成為了本領域技術人員亟待解決的問題。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明提供一種TFT陣列基板及其制造方法、顯示面板和顯示裝置。
一種TFT陣列基板,包括基板,數(shù)據(jù)線,位于基板的上方;以及柵絕緣層,位于基板的上方,所述柵絕緣層包括凹槽,所述數(shù)據(jù)線位于所述凹槽內(nèi)。
相應的,本發(fā)明還提供一種制造上述TFT陣列基板的方法,包括在基板上形成柵絕緣層;在所述柵絕緣層形成凹槽;以及設置數(shù)據(jù)線,其中所述數(shù)據(jù)線位于所述凹槽內(nèi)。
相應的,本發(fā)明還提供一種顯示面板,包括如上所述的TFT陣列基板;以及彩膜基板,與所述TFT陣列基板相對設置。
相應的,本發(fā)明還提供一種顯示裝置,包括如上所述的TFT陣列基板。
與現(xiàn)有技術相比,本發(fā)明具有如下突出的優(yōu)點之一:
本發(fā)明的TFT陣列基板及其制造方法、顯示面板和顯示裝置,通過在柵絕緣層上設置凹槽,并將數(shù)據(jù)線設置在柵絕緣層的凹槽內(nèi),可以達到以下至少一個效果:減少數(shù)據(jù)線和公共電極之間的耦合電容,降低數(shù)據(jù)線產(chǎn)生的電場干擾,降低閃爍(Flicker)不均和串擾(Crosstalk),提高基板制備的良率,提高了顯示品質(zhì)。
附圖說明
圖1是本發(fā)明實施例一的TFT陣列基板的第一種部分結構示意圖;
圖2是本發(fā)明實施例一TFT陣列基板沿AA’線的第一種剖面示意圖;
圖3是本發(fā)明實施例一TFT陣列基板沿AA’線的第二種剖面示意圖;
圖4是本發(fā)明實施例一的TFT陣列基板的第二種部分結構示意圖;
圖5是本發(fā)明實施例一TFT陣列基板沿AA’線的第三種剖面示意圖;
圖6是本發(fā)明實施例一TFT陣列基板沿AA’線的第四種剖面示意圖;
圖7是本發(fā)明實施例二TFT陣列基板的部分結構示意圖;
圖8a是本發(fā)明實施例二的TFT陣列基板沿AA’線的剖面示意圖;
圖8b是本發(fā)明實施例二的TFT陣列基板沿BB’線的剖面示意圖;
圖9是本發(fā)明的實施例一TFT陣列基板制造工藝的流程圖。
具體實施方式
為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更為明顯易懂,下面將結合附圖和實施例對本發(fā)明做進一步說明。
需要說明的是:
在以下描述中闡述了具體細節(jié)以便于充分理解本發(fā)明。但是本發(fā)明能夠以多種不同于在此描述的其它方式來實施,本領域技術人員可以在不違背本發(fā)明內(nèi)涵的情況下做類似推廣。因此本發(fā)明不受下面公開的具體實施方式的限制。
實施例一
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結構中的





