[發(fā)明專利]一種雙閥激光濺射反應(yīng)源

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310468675.4
• 申請日: 2013-10-09
• 公開（公告）號: CN103560071A
• 公開（公告）日: 2014-02-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 唐紫超;謝華;劉志凌;秦正波;張世宇
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學院大連化學物理研究所
• 主分類號: H01J49/16
• 分類號: H01J49/16
• 代理公司: 沈陽晨創(chuàng)科技專利代理有限責任公司 21001
• 代理人: 張晨

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于質(zhì)譜分析領(lǐng)域，具體涉及一種雙閥激光濺射反應(yīng)源。

背景技術(shù)

激光直接氣化團簇源的原理是采用脈沖激光氣化位于高真空(<10-8Torr)腔體中的固體樣品，所產(chǎn)生的等離子體在沒有緩沖氣體存在的情況下直接向真空膨脹，形成團簇。該方法簡單，但所形成的團簇尺寸范圍有限，起初主要用來產(chǎn)生熔點較高材料的團簇如碳團簇等。后來，Smalley等人首創(chuàng)的激光濺射超聲分子束載帶的團簇源，可以產(chǎn)生很多種不同的團簇離子。聚焦激光束濺射固體樣品表面，產(chǎn)生的等離子體迅速與脈沖閥產(chǎn)生的超聲分子束碰撞冷卻形成團簇。該方法能夠產(chǎn)生豐富的金屬團簇，但對所產(chǎn)生的金屬團簇，它們是如何在團簇源里形成的？目前我們還是不得而知的。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決上述問題，本發(fā)明的目的在Smally的團簇源的基礎(chǔ)之上，額外增加了一個脈沖閥，之前所產(chǎn)生的金屬團簇與反應(yīng)氣體發(fā)生反應(yīng)之后，形成了新的金屬團簇，通過比較，本發(fā)明得到新的金屬團簇反應(yīng)產(chǎn)物。

本發(fā)明提供了一種雙閥激光濺射反應(yīng)源，該裝置結(jié)構(gòu)由濺射激光，脈沖閥a，脈沖閥b，樣品靶，反應(yīng)通道以及噴嘴組成；脈沖閥a位于裝置的頂端，下端與反應(yīng)通道相連，反應(yīng)通道的下端與噴嘴相連，在反應(yīng)通道的右側(cè)是樣品靶，左側(cè)是脈沖閥b。

本發(fā)明提供的雙閥激光濺射反應(yīng)源，所述的濺射激光波長為532nm。

本發(fā)明提供的雙閥激光濺射反應(yīng)源，所述脈沖閥a和脈沖閥b組成雙脈沖閥；所述脈沖閥a用來產(chǎn)生金屬團簇；所述脈沖閥b噴出的反應(yīng)氣與脈沖閥a產(chǎn)生的金屬團簇發(fā)生反應(yīng)之后，得到新的金屬團簇。

本發(fā)明的優(yōu)點：對第一個脈沖閥形成的金屬團簇，通過第二個脈沖閥噴出的反應(yīng)氣與之前的金屬團簇發(fā)生反應(yīng)之后，得到新的金屬團簇，通過比較之后，可以區(qū)別濺射產(chǎn)物以及反應(yīng)產(chǎn)物，從而可以理解金屬團簇是如何在團簇源形成的。

附圖說明

圖1為一種雙閥激光濺射反應(yīng)源的結(jié)構(gòu)示意圖；其中1為濺射激光；2為脈沖閥a；3為脈沖閥b；4為樣品靶；5為反應(yīng)通道；6為噴嘴。

具體實施方式

下面的實施例將對本發(fā)明予以進一步的說明，但并不因此而限制本發(fā)明。

如圖1所示，本發(fā)明提供了一種雙閥激光濺射反應(yīng)源，該裝置結(jié)構(gòu)由濺射激光，脈沖閥a，脈沖閥b，樣品靶，反應(yīng)通道以及噴嘴組成；脈沖閥a位于裝置的頂端，下端與反應(yīng)通道相連，反應(yīng)通道的下端與噴嘴相連，在反應(yīng)通道的右側(cè)是樣品靶，左側(cè)是脈沖閥b。

與單脈沖閥激光濺射團簇源不同，雙脈沖閥激光濺射源采用了兩個脈沖閥和一個額外的反應(yīng)孔道。這種設(shè)計主要用來研究生成團簇與小分子的反應(yīng)、團簇反應(yīng)物以及反應(yīng)中間體等。主脈沖閥用來引入惰性氣體載氣，生成純的團簇之后，在反應(yīng)孔道部分，由次脈沖閥引入反應(yīng)氣體(CO，O₂等)，生成的團簇與反應(yīng)氣體碰撞相互作用，生成反應(yīng)物以及反應(yīng)中間體。兩個脈沖閥的時序需要分別控制。因此，該發(fā)明可以實現(xiàn)金屬團簇是如何在離子源里形成的。