[發明專利]用于反應器中吸熱氣相反應的反應器和方法

有效

• 申請號: 201310467725.7
• 申請日: 2013-10-09
• 公開（公告）號: CN103771421A
• 公開（公告）日: 2014-05-07
• 發明（設計）人: 安德烈亞斯·希爾施曼;沃爾特·哈克爾;烏韋·佩特佐爾德
• 申請（專利權）人: 瓦克化學股份公司
• 主分類號: C01B33/107
• 分類號: C01B33/107;B01J12/00
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 余剛;張英

1.一種用于反應器中吸熱氣相反應的方法，其中通過氣體入口裝置將反應物氣體引入到所述反應器中并借助于氣體分布裝置均勻地分布到加熱區中，其中，在所述加熱區中借助于加熱元件將所述反應物氣體加熱至500-1500℃的平均溫度，然后將其引導到反應區中，所述反應物氣體在所述反應區中反應以提供通過氣體出口裝置引導出所述反應器的產物氣體。

2.一種用于反應器中吸熱氣相反應的方法，其中通過氣體入口裝置將反應物氣體引入到所述反應器中并引導至在其中借助于加熱元件將所述反應物氣體加熱至500-1500℃的平均溫度的加熱區中，其中，通過所述反應區中的溫度測量控制所述加熱元件的加熱，出于此目的在所述反應區中存在至少兩個溫度傳感器，并且所述反應物氣體在反應區中反應以提供最終通過氣體出口裝置引導出所述反應器的產物氣體。

3.根據權利要求2所述的方法，其中，在所述溫度傳感器處所確定的所述溫度與其平均值的平均偏差不超過50K。

4.根據權利要求2所述的方法，其中借助于氣體分布裝置將反應物氣體均勻分布到所述加熱區中。

5.根據權利要求3所述的方法，其中借助于氣體分布裝置將反應物氣體均勻分布到所述加熱區中。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的方法，其中，所述反應物氣體為四氯化硅和氫氣，它們在至少600℃的溫度下反應以提供三氯硅烷和HCl。

7.根據權利要求1至5中任一項所述的方法，其中，提供至少一個換熱器，所述換熱器通過逆流原理借助于在所述反應中所產生的產物氣體加熱反應物氣體，所述氣體分布裝置被設置在換熱器和加熱區之間。

8.一種用于實施根據權利要求1至7中任一項所述方法的反應器，包括用于將反應物氣體引入到所述反應器中的至少一個氣體入口裝置；和可以將產物氣體通過其從所述反應器中引導出的至少一個氣體出口裝置；包括用于使所述反應物氣體加熱的加熱元件的加熱區；其中所述反應物氣體反應以提供產物氣體的反應區；任選地用于在所述反應區中均勻分布反應物氣體的氣體分布裝置和所述反應區內用于確定反應溫度的至少兩個溫度傳感器。

9.根據權利要求8所述的反應器，其中，提供了適合于通過對流原理借助于所述反應中所產生的產物氣體加熱反應物氣體的至少一個換熱器，所述氣體分布裝置被設置在換熱器和加熱區之間。