[發明專利]一種提高藍寶石襯底片表面質量和產品良率的加工方法

有效

• 申請號: 201310467696.4
• 申請日: 2013-10-09
• 公開（公告）號: CN103495928A
• 公開（公告）日: 2014-01-08
• 發明（設計）人: 杜彥召
• 申請（專利權）人: 廣東賽翡藍寶石科技有限公司
• 主分類號: B24B37/04
• 分類號: B24B37/04;H01L21/304;H01L21/306
• 代理公司: 廣州市越秀區海心聯合專利代理事務所(普通合伙) 44295
• 代理人: 黃為

1.一種提高藍寶石襯底片表面質量和產品良率的加工方法，其特征在于，該方法包括下述步驟：（1）機械快速粗磨，將清洗干凈的襯底片擺放入研磨設備進行研磨，研磨去除量為90～110μm，研磨后的襯底片通過超聲波進行清洗；（2）干法化學蝕刻去應力，將清洗后的襯底片進行烘干，烘干后放入干法蝕刻機內，抽真空后通入蝕刻氣體和輔助氣體，其中，蝕刻氣體為鹵素氣體，流量為50～300sccm，輔助氣體為氬氣或氮氣，流量為5～90sccm，蝕刻時間為2～5分鐘，蝕刻完畢后將襯底片進行清洗烘干；（3）機械精磨，將烘干后的襯底片擺放入研磨設備進行研磨，研磨去除量為5～10μm，研磨后的襯底片通過超聲波進行清洗；（4）干法化學蝕刻提高平整，將清洗后的襯底片進行烘干，烘干后放入干法蝕刻機內，抽真空后通入蝕刻氣體和輔助氣體，其中，蝕刻氣體為鹵素氣體，流量為50～200sccm，輔助氣體為氬氣或氮氣，流量為5～90sccm，蝕刻時間為2～5分鐘，蝕刻完畢后將襯底片進行清洗烘干；（5）機械拋光，將烘干的襯底片放入研磨設備中研磨，研磨去除量為30～50μm。

2.根據權利要求1所述的一種提高藍寶石襯底片表面質量和產品良率的加工方法，其特征在于，步驟（1）具體為：將清洗干凈的襯底片擺放入研磨設備，用250#～280#號碳化硼粉按照30～50％的濃度比例與水混合作為研磨液，研磨轉速為800轉/分～1000轉/分，研磨時間20～30分鐘，去除量為90～110μm，研磨后的襯底片放超聲波清洗槽進行清洗。

3.根據權利要求1所述的一種提高藍寶石襯底片表面質量和產品良率的加工方法，其特征在于，步驟（2）和步驟（4）所述的抽真空壓力均為抽至真空度小于0.001Tor；所述蝕刻時的偏壓設定均為：-200V～-800V。

4.根據權利要求1所述的一種提高藍寶石襯底片表面質量和產品良率的加工方法，其特征在于，步驟（2）和步驟（4）所述的烘干均具體為：將超聲清洗后的襯底片放80℃恒溫烘箱進行24小時烘干，烘干后浸泡丙酮溶液除去表面殘留油污，浸泡后用氮氣槍將襯底片吹干。

5.根據權利要求1所述的一種提高藍寶石襯底片表面質量和產品良率的加工方法，其特征在于，步驟（3）具體為：將清洗干凈的襯底片擺放入研磨設備，用300#～350#號碳化硼粉按照30～50％的濃度比例與水混合作為研磨液，研磨轉速為800轉/分～1000轉/分，研磨時間20～30分鐘，去除量為5～10μm，研磨后的襯底片放超聲波清洗槽進行清洗。

6.根據權利要求1所述的一種提高藍寶石襯底片表面質量和產品良率的加工方法，其特征在于，步驟（2）和步驟（4）所述的鹵素氣體均為氯基或溴基或氟基氣體中的一種。

7.根據權利要求1所述的一種提高藍寶石襯底片表面質量和產品良率的加工方法，其特征在于，步驟（5）所述的研磨工藝參數為：用粒度為30～50nm的二氧化硅拋光液，拋光液ph值為9～12，拋光盤壓力為0.1Mpa～0.15Mpa，拋光時間為3～5小時，拋光頭轉速為100～200轉/分鐘。