[發明專利]GaN基半導體光器件、GaN基半導體光器件的制作方法、外延晶片及GaN基半導體膜的生長方法無效
| 申請號: | 201310467484.6 | 申請日: | 2009-08-03 |
| 公開(公告)號: | CN103560396A | 公開(公告)日: | 2014-02-05 |
| 發明(設計)人: | 鹽谷陽平;善積祐介;上野昌紀;秋田勝史;京野孝史;住友隆道;中村孝夫 | 申請(專利權)人: | 住友電氣工業株式會社 |
| 主分類號: | H01S5/343 | 分類號: | H01S5/343 |
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人: | 楊海榮;穆德駿 |
| 地址: | 日本大阪*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | gan 半導體 器件 制作方法 外延 晶片 生長 方法 | ||
1.一種GaN基半導體激光器,包含:
襯底,其包含第一GaN基半導體,且具有主面,該主面自與沿著該第一GaN基半導體的c軸延伸的基準軸正交的面起,以63度以上且小于80度的范圍的傾斜角向該第一GaN基半導體的m軸方向傾斜;
GaN基半導體外延區域,其設置在所述主面上;及
半導體外延層,其設置在所述GaN基半導體外延區域上,用于有源層,且
所述半導體外延層包含第二GaN基半導體,所述第二GaN基半導體含有銦,
所述GaN基半導體激光器在與所述主面平行的方向上具有諧振器,
所述諧振器的朝向與所述GaN基半導體激光器的LED模式中發光的偏光的朝向一致,與將所述c軸朝所述主面投影的方向平行,
所述基準軸的朝向為所述第一GaN基半導體的[0001]軸及[000-1]軸的任一方向。
2.如權利要求1所述的GaN基半導體激光器,其中,所述LED模式中發光的偏光的朝向為與a軸方向平行的方向。
3.如權利要求1或2所述的GaN基半導體激光器,其中:
所述襯底的所述主面的法線朝向具有X軸、Y軸和Z軸的坐標系的所述Z軸的方向,
所述襯底的所述主面沿所述坐標系的所述X軸和所述Y軸的方向延伸,
所述坐標系的所述X軸的方向朝向所述第一GaN基半導體的a軸的方向,
所述諧振器的朝向為與所述坐標系的所述Y軸的方向平行的朝向。
4.如權利要求1至3中任一項所述的GaN基半導體激光器,其中,所述諧振器具有諧振器面,所述諧振器面與所述諧振器的朝向垂直。
5.如權利要求1至4中任一項所述的GaN基半導體激光器,其中,所述襯底的所述主面自與所述基準軸正交的面起,以70度以上的角度向該第一GaN基半導體的m軸方向傾斜。
6.如權利要求1至5中任一項所述的GaN基半導體激光器,其中,所述襯底的所述主面自與所述基準軸正交的面起,以71度以上、79度以下的角度向該第一GaN基半導體的m軸方向傾斜。
7.如權利要求1至6中任一項所述的GaN基半導體激光器,其中,所述第一GaN基半導體的a軸方向的偏離角在-3度以上、+3度以下的范圍內。
8.如權利要求1至7中任一項所述的GaN基半導體激光器,其中,包括設置在所述有源層上的第二導電型GaN基半導體層,
所述GaN基半導體外延區域含有第一導電型GaN基半導體層,
所述有源層含有沿預定的軸方向交替配置的阱層及勢壘層,
所述阱層包含所述半導體外延層,且所述勢壘層包含GaN基半導體,
所述第一導電型GaN基半導體層、所述有源層及所述第二導電型GaN基半導體層沿預定的軸方向排列,且所述基準軸的方向與所述預定的軸方向不同。
9.如權利要求1至8中任一項所述的GaN基半導體激光器,其中,所述有源層以生成370nm以上、650nm以下的波長范圍的光的方式設置。
10.如權利要求1至9中任一項所述的GaN基半導體激光器,其中,所述有源層以生成480nm以上、600nm以下的波長范圍的光的方式設置。
11.如權利要求1至10中任一項所述的GaN基半導體激光器,其中,所述襯底的所述主面為自該第一GaN基半導體的(20-21)面及(20-2-1)面中的任一面起,以-3度以上、+3度以下的范圍的角度傾斜的半導體面。
12.如權利要求1至11中任一項所述的GaN基半導體激光器,其中,所述基準軸朝向所述[0001]軸的方向。
13.如權利要求1至12中任一項所述的GaN基半導體激光器,其中,所述基準軸朝向所述[000-1]軸的方向。
14.如權利要求1至13中任一項所述的GaN基半導體激光器,其中,所述襯底包含GaN。
15.如權利要求1至14中任一項所述的GaN基半導體激光器,其中,所述襯底的所述主面的表面形態含有多個微臺階,該微臺階的主要的構成面至少包含m面及(10-11)面。
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