[發明專利]增印保護膜有效
| 申請號: | 201310467015.4 | 申請日: | 2013-10-09 |
| 公開(公告)號: | CN104553101A | 公開(公告)日: | 2015-04-29 |
| 發明(設計)人: | 金闖;張慶杰 | 申請(專利權)人: | 蘇州斯迪克新材料科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B32B5/00 | 分類號: | B32B5/00;B32B27/10;B32B37/14 |
| 代理公司: | 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103 | 代理人: | 馬明渡;王健 |
| 地址: | 215400 江蘇省蘇州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 保護膜 | ||
技術領域
本發明涉及一種保護膜,特別涉及一種增印保護膜。
背景技術
薄膜面板例如手機觸摸按鍵,薄膜開關等產品在搬運和使用過程中,其表面容易受到接觸性污染或磨痕劃傷,通常采用保護膜覆蓋在其表面使之免受損傷和污染。保護膜一般由基材層和涂覆在該基材層上的膠粘劑層構成。當保護膜用來保護各種薄膜面板例如手機觸摸按鍵,薄膜開關等產品的表面時,需要在保護膜上印刷文字、圖案等,傳統的保護膜一般都沒有經過耐磨增印處理,因此很難在保護膜上進行印刷作業;其次,增印保護膜中離型紙與涂覆有高粘度粘合劑的貼膜貼附時,容易導致離型紙上的離型劑涂層被粘附力更大的粘合劑帶走,從而在貼膜的局部表面形成難以清理掉的離型劑涂層區域,破壞了貼膜整體的純凈、一致性。
發明內容
本發明提供一種增印保護膜,該增印保護膜使得有機硅膠面霧度效果好,使得膠面達到低反光效果;且提高了與離型劑涂層接觸的霧面涂層表面粗糙度均勻性,解決離型紙的淋膜層與離型劑涂層結合力不穩定的技術問題,有利于剝離以及避免殘留壓敏膠和將離型劑殘留于壓敏膠層上。
為達到上述目的,本發明采用的技術方案是:一種增印保護膜,包括一基材層,此基材層上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂層,此基材層下表面通過有機硅壓敏膠層與一霧面離型紙粘合連接,所述霧面離型紙由第一淋膜層、離型紙原紙層、第二淋膜層、霧面涂層和離型劑涂層依次層疊構成,所述霧面涂層朝向所述離型劑涂層的表面的表面粗糙度為2.821um~3.324um;所述制備工藝主要由下列步驟組成:
第一步:在離型紙原紙的兩側表面,用淋膜機各淋膜一層淋膜層,然后冷卻;
第二步:在任意一淋膜層上涂覆一層厚度為0.2~2微米的霧面涂層劑,該霧面涂層劑進一步通過以下工藝獲得:
步驟1.?將0.3~1份納米SiO2粉體、0.2~0.6份納米Al2O3粉體和0.3~1份硅烷偶聯劑加入8~10份甲苯中進行超聲波處理獲得預分散液;
步驟2.?將100份乙烯基硅氧烷、0.3~1份含氫硅氧烷加入120~150份丁酮中進行機械攪拌獲得聚合物溶液;
步驟3.?將步驟1的預分散液、步驟2的聚合物溶液混合并依次進行機械攪拌和超聲波攪拌,從而獲得調制后的聚合物溶液;
步驟4.?在所述調制后的聚合物溶液加入0.2~0.5份鉑金并依次進行機械攪拌和超聲波攪拌獲得所述霧面離型溶劑;
第三步:將離型紙的霧面涂層劑通過烘烤進行聚合反應得到霧面涂層;
第四步:在所述霧面涂層的表面涂覆一層離型劑涂層。
上述技術方案中進一步改進的技術方案如下:
1.?上述方案中,所述納米SiO2粉體的直徑范圍為10~15nm,所述納米Al2O3粉體的直徑范圍為25~35nm。
2.?上述方案中,所述第一、第二淋膜層的材質為聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯或者聚氯乙烯。
由于上述技術方案運用,本發明與現有技術相比具有下列優點和效果:
本發明增印保護膜,特定直徑和含量的納米SiO2粉體、納米Al2O3粉體在溶劑下與硅烷偶聯劑經超聲波共同作用,且機械攪拌和超聲波攪拌組合,有利于納米SiO2粉體、Al2O3粉體呈均勻分布,特定的聚合物溶液和預分散液采用不同的溶劑,降低納米SiO2粉體、Al2O3顆粒的表面能,進一步利于粉體顆粒在溶劑中的分散,提高了與離型劑涂層接觸的霧面涂層表面粗糙度均勻性,解決離型紙的淋膜層與離型劑涂層結合力不穩定的技術問題,有利于剝離以及避免殘留壓敏膠和將離型劑殘留于壓敏膠層上。
附圖說明
附圖1為本發明增印保護膜結構示意圖;
附圖2a為現有增印保護膜中霧面涂層微觀形貌SEM測試圖;
附圖2b為本發明增印保護膜中霧面涂層微觀形貌SEM測試圖。
以上附圖中:1、基材層;2、增印涂層;3、有機硅壓敏膠層;4、霧面離型紙;5、第一淋膜層;6、離型紙原紙層;7、第二淋膜層;8、霧面涂層;9、離型劑涂層。
具體實施方式
下面結合附圖及實施例對本發明作進一步描述:
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