[發(fā)明專利]二維平面射流減阻測試裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310466845.5
• 申請日: 2013-10-09
• 公開（公告）號: CN103528789A
• 公開（公告）日: 2014-01-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 趙剛;李芳;劉維新;孫壯志
• 申請（專利權(quán)）人: 哈爾濱工程大學(xué)
• 主分類號: G01M10/00
• 分類號: G01M10/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.二維平面射流減阻測試裝置，其特征是：包括水箱、水泵、測試段，測試段包括二維通道，二維通道一端設(shè)置二維通道入口，另一端設(shè)置二維通道出口，二維通道入口為漸縮形狀，二維通道出口為漸擴(kuò)形狀，二維通道入口與二維通道之間安裝柵格式整流段，水泵連通水箱，水泵通過進(jìn)口管路連通二維通道入口，二維通道出口通過出口管路連通水箱，進(jìn)口管路上安裝有調(diào)速閥、電磁流量計、壓力表，進(jìn)口管路還連通裝有溢流閥的回流管路，回流管路連通水箱。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的二維平面射流減阻測試裝置，其特征是：二維通道上設(shè)置有射流管入口，水泵通過射流管路連通射流管入口，射流管路上安裝有射流閥，射流管入口的左右兩側(cè)各開有一個測壓孔，兩個測壓孔均連接壓差計。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的二維平面射流減阻測試裝置，其特征是：所述的兩個測壓孔開在二維通道的底面中心線上，二維通道的寬度不小于其高度的10倍。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一所述的二維平面射流減阻測試裝置，其特征是：還包括測量湍流特性的PIV系統(tǒng)，所述的PIV系統(tǒng)包括雙脈沖激光、CCD相機(jī)、圖像處理計算機(jī)，二維通道的上表面開設(shè)光學(xué)玻璃窗，光學(xué)玻璃窗旁設(shè)置雙脈沖激光，二維通道側(cè)面設(shè)置CCD相機(jī)，CCD相機(jī)面向光學(xué)玻璃窗的下方，CCD相機(jī)連接圖像處理計算機(jī)。

5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的二維平面射流減阻測試裝置，其特征是：當(dāng)測量非光滑表面薄膜的減阻效果時，射流閥關(guān)閉，二維管道的底部鋪設(shè)需要測量的非光滑表面薄膜，通過對比鋪設(shè)非光滑表面薄膜前后的壓差值來檢測非光滑表面薄膜的減阻效果。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的二維平面射流減阻測試裝置，其特征是：當(dāng)測量非光滑表面薄膜的減阻效果時，射流閥關(guān)閉，二維管道的底部鋪設(shè)需要測量的非光滑表面薄膜，通過對比鋪設(shè)非光滑表面薄膜前后的壓差值來檢測非光滑表面薄膜的減阻效果。