[發(fā)明專利]具有觸控功能的彩膜基板及其制造方法和內(nèi)嵌式觸摸屏有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310465138.4 | 申請日: | 2013-10-08 |
| 公開(公告)號: | CN103969880A | 公開(公告)日: | 2014-08-06 |
| 發(fā)明(設計)人: | 陳浩;柴慧平;馬駿 | 申請(專利權)人: | 上海天馬微電子有限公司;天馬微電子股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G02F1/1333;G06F3/041 |
| 代理公司: | 上海思微知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 鄭瑋 |
| 地址: | 201201 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 功能 彩膜基板 及其 制造 方法 內(nèi)嵌式 觸摸屏 | ||
1.一種具有觸控功能的彩膜基板,其特征在于,包括:基板、多條驅(qū)動線、多條檢測線和多個色阻層;
其中,所述多條驅(qū)動線和多條檢測線形成于所述基板上,所述驅(qū)動線和檢測線縱橫交錯設置并相互獨立,每條檢測線被所述驅(qū)動線隔成若干段;
所述多個色阻層包括底層色阻層和頂層色阻層,所述底層色阻層覆蓋被隔斷的檢測線的部分區(qū)域,所述被隔斷的檢測線中未被底層色阻層覆蓋的部分區(qū)域通過一跨橋電連接;
所述跨橋形成于所述頂層色阻層和底層色阻層之間。
2.如權利要求1所述的具有觸控功能的彩膜基板,其特征在于,所述多個色阻層還包括中間色阻層;
所述中間色阻層位于所述底層色阻層和頂層色阻層之間。
3.如權利要求2所述的具有觸控功能的彩膜基板,其特征在于,所述底層色阻層、中間色阻層和頂層色阻層采用的彩色濾光膜均為單色濾光膜或由兩種不同顏色的單色濾光膜組成的復合膜。
4.如權利要求3所述的具有觸控功能的彩膜基板,其特征在于,所述單色濾光膜為紅色濾光膜、綠色濾光膜、藍色濾光膜或白色濾光膜;
所述復合膜為紅色濾光膜、綠色濾光膜、藍色濾光膜和白色濾光膜中任意兩種單色濾光膜的組合。
5.如權利要求4所述的具有觸控功能的彩膜基板,其特征在于,所述底層色阻層、頂層色阻層和中間色阻層采用的彩色濾光膜中單色濾光膜的顏色均不相同。
6.如權利要求5所述的具有觸控功能的彩膜基板,其特征在于,所述頂層色阻層采用的彩色濾光膜為紅色濾光膜,所述中間色阻層采用的彩色濾光膜為綠色濾光膜,所述底層色阻層采用的彩色濾光膜為藍色濾光膜。
7.如權利要求1至6任一項所述的具有觸控功能的彩膜基板,其特征在于,還包括具有多個開口的黑矩陣,所述黑矩陣形成于所述基板上。
8.如權利要求7所述的具有觸控功能的彩膜基板,其特征在于,所述驅(qū)動線、檢測線和跨橋形成于所述黑矩陣上的非開口區(qū)域。
9.如權利要求8所述的內(nèi)嵌式觸摸屏彩膜基板,其特征在于,所述驅(qū)動線、檢測線與所述跨橋采用相同的導電材料。
10.如權利要求7所述的具有觸控功能的彩膜基板,其特征在于,所述驅(qū)動線和檢測線形成于所述黑矩陣上的非開口區(qū)域并延伸至開口區(qū)域,所述跨橋形成于所述黑矩陣上的非開口區(qū)域和/或開口區(qū)域,所述驅(qū)動線、檢測線與所述跨橋均采用透明的導電材料。
11.一種內(nèi)嵌式觸摸屏,其特征在于,包括:
陣列基板;
如權利要求1至10中任一項所述的具有觸控功能的彩膜基板;以及
設置于所述彩膜基板和陣列基板之間的液晶層。
12.一種具有觸控功能的彩膜基板的制造方法,其特征在于,包括:
提供一基板;
在所述基板上形成第一金屬層;
對所述第一金屬層進行光刻,形成多條驅(qū)動線和多條檢測線,所述驅(qū)動線和檢測線縱橫交錯設置并相互獨立,每條檢測線被所述驅(qū)動線隔成若干段;
在所述基板、驅(qū)動線和檢測線上形成底層色阻層,所述底層色阻層覆蓋被隔斷的檢測線的部分區(qū)域;
在所述基板和所述底層色阻層上形成第二金屬層;
對所述第二金屬層進行光刻形成跨橋,所述跨橋覆蓋在未被底層色阻層覆蓋的檢測線的上面,以將所述被隔斷的檢測線電連接;
在所述跨橋上形成頂層色阻層。
13.如權利要求12所述的具有觸控功能的彩膜基板的制造方法,其特征在于,在形成第一金屬層之前,還包括:在所述基板上形成具有多個開口的黑矩陣,所述驅(qū)動線、檢測線和跨橋形成于所述黑矩陣上的非開口區(qū)域。
14.如權利要求13所述的具有觸控功能的彩膜基板的制造方法,其特征在于,所述第一金屬層和第二金屬層均采用相同的導電材料。
15.如權利要求12所述的具有觸控功能的彩膜基板的制造方法,其特征在于,在形成第一金屬層之前,還包括:在所述基板上形成具有多個開口的黑矩陣,所述驅(qū)動線和檢測線形成于所述黑矩陣上的非開口區(qū)域并延伸至開口區(qū)域,所述跨橋形成于所述黑矩陣上的非開口區(qū)域和/或開口區(qū)域,所述第一金屬層和第二金屬層為透明導電材料。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構中的





