[發(fā)明專(zhuān)利]有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310462645.2
• 申請(qǐng)日: 2013-09-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104518171A
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-04-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周明杰;鐘鐵濤;王平;黃輝
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技術(shù)有限公司;深圳市海洋王照明工程有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L51/52
• 分類(lèi)號(hào): H01L51/52;H01L51/54;H01L51/56
• 代理公司: 深圳市隆天聯(lián)鼎知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司44232
• 代理人: 劉抗美;劉耿

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光電子器件領(lǐng)域，尤其涉及有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法。

背景技術(shù)

有機(jī)電致發(fā)光器件（OLED）是基于有機(jī)材料的一種電流型半導(dǎo)體發(fā)光器件，其典型結(jié)構(gòu)是在ITO玻璃上制作一層幾十納米厚的有機(jī)發(fā)光材料作發(fā)光層，發(fā)光層上方有一層低功函數(shù)的金屬電極。當(dāng)電極上加有電壓時(shí)，發(fā)光層就產(chǎn)生光輻射。

OLED器件具有主動(dòng)發(fā)光、發(fā)光效率高、功耗低、輕、薄、無(wú)視角限制等優(yōu)點(diǎn)，被業(yè)內(nèi)人士認(rèn)為是最有可能在未來(lái)的照明和顯示器件市場(chǎng)上占據(jù)霸主地位的新一代器件。作為一項(xiàng)嶄新的照明和顯示技術(shù)，OLED技術(shù)在過(guò)去的十多年里發(fā)展迅猛，取得了巨大的成就。由于全球越來(lái)越多的照明和顯示廠(chǎng)家紛紛投入研發(fā)，大大的推動(dòng)了OLED的產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程，使得OLED產(chǎn)業(yè)的成長(zhǎng)速度驚人，目前已經(jīng)到達(dá)了大規(guī)模量產(chǎn)的前夕。

OLED器件對(duì)水蒸氣和氧氣非常敏感，而滲透進(jìn)器件內(nèi)部的水蒸氣和氧氣是影響OLED器件壽命的主要因素，因此，制備技術(shù)的好壞將直接影響器件的壽命。目前，包含由有機(jī)或/和無(wú)機(jī)材料組成的復(fù)合層或阻擋層的柔性O(shè)LED器件是有機(jī)電致發(fā)光器件的發(fā)展趨勢(shì)，但是，此類(lèi)現(xiàn)有器件還存在防水氧性能差和壽命短的問(wèn)題；現(xiàn)有制備方法還存在原材料昂貴、配套設(shè)備復(fù)雜和制造成本高的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于解決上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問(wèn)題和不足，提供一種有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法，通過(guò)對(duì)有機(jī)阻擋層和混合阻擋層的交替層疊，同時(shí)選取硼的直鏈烷和氧化物按照一定比例摻雜組成混合阻擋層，有效改善了器件的防水氧性能。

本發(fā)明針對(duì)上述技術(shù)問(wèn)題而提出的技術(shù)方案為：一種有機(jī)電致發(fā)光器件，該有機(jī)電致發(fā)光器件為層狀結(jié)構(gòu)，該層狀結(jié)構(gòu)依次層疊為：陽(yáng)極導(dǎo)電基板、空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層、陰極層及在所述陰極層上交替層疊的有機(jī)阻擋層和混合阻擋層；其中，

所述有機(jī)阻擋層的材質(zhì)為酞菁銅、N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-聯(lián)苯-4,4'-二胺、8-羥基喹啉鋁、4,4',4″-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺或4，7－二苯基－1，10－鄰菲羅啉的任意一種；

所述混合阻擋層的材質(zhì)為氧化物和硼的直鏈烷組成的混合物；所述氧化物為MoO₃、V₂O₅、WO₃、Cs₂O、Ni₂O或MnO₂的任意一種；所述氧化物占所述混合物中的摩爾百分比為20mol%～40mol%；所述硼的直鏈烷如結(jié)構(gòu)式（P）所示：

其中，k是1～4的整數(shù)

進(jìn)一步地，所述有機(jī)阻擋層和混合阻擋層交替層疊的層數(shù)均為4、5或6。

進(jìn)一步地，所述有機(jī)阻擋層的厚度為200nm～300nm。

進(jìn)一步地，所述混合阻擋層的厚度為200nm～300nm。

進(jìn)一步地，所述陽(yáng)極導(dǎo)電基板包括陽(yáng)極導(dǎo)電層和基板，所述陽(yáng)極導(dǎo)電層的材質(zhì)為導(dǎo)電氧化物，所述基板的材質(zhì)為玻璃、塑料或金屬；

所述空穴注入層的材質(zhì)為將MoO3摻雜入N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-聯(lián)苯-4,4'-二胺的混合物，MoO₃占N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-聯(lián)苯-4,4'-二胺的重量百分比為30wt%；

所述空穴傳輸層的材質(zhì)為4,4',4″-三（咔唑-9-基）三苯胺；

所述發(fā)光層的材質(zhì)為將三（2-苯基吡啶）合銥摻雜入1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯的混合物，三（2-苯基吡啶）合銥占1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯的重量百分比為5wt%；

所述電子傳輸層的材質(zhì)為4,7-二苯基-1,10-菲羅啉；

所述電子注入層的材質(zhì)為將CsN₃摻雜入4,7-二苯基-1,10-菲羅啉的混合物，CsN₃占4,7-二苯基-1,10-菲羅啉的重量百分比為30wt%；

所述陰極層的材質(zhì)為金屬。

本發(fā)明還提供一種有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，包括以下步驟：

（a）采用真空蒸鍍的方法在清洗干凈的陽(yáng)極導(dǎo)電基板上依次形成空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層和陰極層；