[發明專利]一種圖像處理方法和裝置

有效

• 申請號: 201310462302.6
• 申請日: 2013-09-30
• 公開（公告）號: CN104519342B
• 公開（公告）日: 2017-07-21
• 發明（設計）人: 陳柯;肖蔓君;楊晨;付榮耀;馬騫
• 申請（專利權）人: 聯想（北京）有限公司
• 主分類號: H04N13/02
• 分類號: H04N13/02
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司11227
• 代理人: 王寶筠

1.一種圖像處理方法，其特征在于，應用于電子設備，該電子設備至少包括圖像傳感器和光投射器，包括：

控制所述光投射器向待攝取對象的表面投射多條紋結構光和點結構光，以在所述待攝取對象的表面形成多條光條紋，并在所述光條紋之間形成多個光點；

通過所述圖像傳感器采集表面具有所述光條紋和所述光點的所述待攝取對象的目標圖像；

獲取包含所述光條紋和所述光點的參考圖像；

根據所述參考圖像中光條紋的特征信息和所述目標圖像中光條紋的特征信息，計算所述目標圖像中每條光條紋位置處的第一深度值；

根據所述參考圖像中光點的特征信息和所述目標圖像中光點的特征信息，計算所述目標圖像中每個光點位置處的第二深度值；

根據所述目標圖像中光條紋位置處的第一深度值和光點位置處的第二深度值，生成所述目標圖像的深度圖；

其中，所述根據所述參考圖像中光條紋的特征信息和所述目標圖像中光條紋的特征信息，計算所述目標圖像中每條光條紋位置處的第一深度值，包括：

將所述目標圖像中的光條紋與所述參考圖像中的光條紋進行匹配，得到多對條紋匹配對，其中，每對所述條紋匹配對中均包括所述目標圖像中的目標光條紋和所述參考圖像中的參考光條紋；

對于每對條紋匹配對，根據所述條紋匹配對中的目標光條紋和參考光條紋的特征信息，計算所述目標光條紋相對于所述參考光條紋的第一視差；

根據所述第一視差，計算所述目標圖像中所述目標光條紋位置處的第一深度值；

所述根據所述參考圖像中光點的特征信息和所述目標圖像中光點的特征信息，計算所述目標圖像中每個光點位置處的第二深度值，包括：

將所述目標圖像中的光點與所述參考圖像中的光點進行匹配，得到多對光點匹配對，其中，每對所述光點匹配對中均包括所述目標圖像中的第一光點和所述參考圖像中的第二光點；

對于每對光點匹配對，根據所述光點匹配對中的第一光點和第二光點的特征信息，計算所述第一光點相對于所述第二光點的第二視差；

根據所述第二視差，計算所述目標圖像中所述第一光點位置處的第二深度值。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述計算所述目標圖像中每條光條紋位置處的第一深度值，包括：

計算所述目標圖像中每條光條紋的條紋中心位置處的第一深度值。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述將所述目標圖像中的光點與所述參考圖像中的光點進行匹配，包括：

對于所述目標圖像中任意兩條相鄰的第一目標光條紋和第二目標光條紋，確定所述參考圖像中分別與所述第一目標光條紋和第二目標光條紋匹配的第一參考光條紋和第二參考光條紋；

對于所述目標圖像中位于第一目標光條紋和第二目標光條紋之間的目標光點，從所述參考圖像的第一參考光條紋和第二參考光條紋之間光點中，匹配所述目標光點相匹配的參考光點，得到所述光點匹配對。